[发明专利]光学玻璃及其制造方法无效
申请号: | 200810086261.4 | 申请日: | 2008-03-24 |
公开(公告)号: | CN101274817A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 齐藤元昭 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
主分类号: | C03C3/253 | 分类号: | C03C3/253 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及适合于在较低温度中的高精度压制成形的光学玻璃及其制造方法。
背景技术
近年来,通过CCD(Charge Coupled Device:电荷耦合元件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等摄像元件读取图像信息的数码摄像机或带摄像头的便携电话正迅速普及。特别是在最近,为达到高画质而开发了高像素的摄像元件,随之对于摄像透镜也要求高光学性能。另一方面,小型化的要求也日益强烈。
为响应这样的要求,大多采用由具有高精度尺寸的模具压制成形的玻璃模制透镜作为上述摄像透镜。与研磨成形相比,根据这样的压制成形,可以容易且高效地制造具有非球面的光学透镜及微小尺寸的光学透镜。
但是,由于这样的压制成形在作为原料的光学玻璃的屈服温度以上的高温下进行,因此承受大的热及应力等物理负荷的模具需要高度的耐久性。当然,光学玻璃的屈服温度越高,施加于模具的物理负荷也越增大,因此,为了模具的长寿命化,需要将光学玻璃的屈服温度抑制得尽可能低。
另一方面,随着摄像透镜的小型化及广角化的进展,还强烈要求光学玻璃的高折射率化。
从这样的背景出发,已开发有若干既具有高折射率还具有较低的屈服温度(及玻化温度)的光学玻璃(例如参照专利文献1、2)。
【专利文献1】JP专利公开2003-300751号公报
【专利文献2】JP专利公开2003-335549号公报
根据上述专利文献1所公开的光学玻璃,相对于d线(587.6nm)的折射率为1.90以上,实现了523℃的玻化温度(569℃的屈服温度)(例如参照表2的实施例10)。另一方面,上述专利文献2中公开了相对于d线的折射率为1.83以上且玻化温度为490℃(屈服温度为540℃)的光学玻璃(参照表2的实施例9)。但是,最近,摄像透镜的小型化及高性能化显著,要求光学玻璃的进一步的高折射率化及加工容易性。
发明内容
本发明是针对这些问题而提出的,其目的在于,提供一种具有更高折射率并且成形性更优越的光学玻璃。并且,本发明的另一目的在于,提供一种制造此种光学玻璃的方法。
本发明的光学玻璃包含:含有率为14重量%~21重量%的GeO2;含有率为14重量%~23重量%的Nb2O5;含有率为40重量%~52重量%的Bi2O3;含有率为0重量%~5重量%的WO3;含有率为7重量%~14重量%的P2O5;含有率为0重量%~4重量%的K2O;含有率为0重量%~5重量%的BaO;含有率为0重量%~3重量%的Li2O;含有率为0重量%~2重量%的Na2O;含有率为1重量%~5重量%的TiO2。在此,铁相对于TiO2的总重量的含有率小于10ppm。还有,WO3、K2O、BaO、Li2O及Na2O的各含有率的范围也包括0重量%。即,它们为任意成分。
在本发明的光学玻璃中,由于是上述组成比,因此在确保高折射率的同时,发挥适合于压制成形的性能。具体来说,折射率通过按规定量含有Bi2O3、GeO2、TiO2、WO3而提高。另一方面,屈服温度通过按规定量含有Bi2O3、Li2O、Na2O、K2O、BaO而降低。而且,由于不纯物铁的含有率为少量,因此着色(例如短波长侧的透过率的劣化)被充分地降低。并且,通过平衡地含有P2O5、Bi2O3、Nb2O5、TiO2、WO3、Li2O、Na2O以及BaO等,加工时的耐失透性提高。
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