[发明专利]表面处理薄片有效
申请号: | 200810084421.1 | 申请日: | 2008-03-21 |
公开(公告)号: | CN101271167A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 凡拉蒂米尔·P.·瑞克沙;保罗·T.·科尔曼 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | G02B5/128 | 分类号: | G02B5/128;C09D5/00;C09D5/36;C09D11/00;C09C3/06;C09C1/00;C23C14/50;G09F3/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 薄片 | ||
1.一种用在载体中的具有第一侧面和第二侧面的不对称反射薄片,包括:
金属反射层,其用于反射光;以及
载体排斥材料的涂层,其由所述金属反射层支撑,其中,所述载体排斥材料被涂覆在所述薄片的所述第一侧面,用于在载体中自聚集所述薄片,使得所述薄片停留在所述载体上,所述薄片的所述第一侧面至少部分地在所述载体的外面并且所述第二侧面浸在所述载体中,以及其中,所述薄片的所述第二侧面没有任何载体排斥材料。
2.根据权利要求1所限定的薄片,其中,所述金属反射层的第一表面是具有至少20纳米凹陷的凹表面,以及所述金属反射层的第二表面是凸表面,所述第二表面与所述第一表面是相对的。
3.根据权利要求2所限定的薄片,其中,所述凹陷的平均曲率半径大于2微米并且小于6毫米。
4.根据权利要求2所限定的薄片,其中,所述金属反射层的第一表面具有邻近于所述凹陷的平的区域。
5.根据权利要求1所限定的薄片,还包括在所述金属反射层的第一表面上的电介质层,和在所述电介质层上的吸收材料涂层,用于在所述薄片的所述第一侧面上提供变色效果。
6.根据权利要求5所限定的薄片,其中,与所述金属反射层的所述第一表面相对的所述金属反射层的第二表面至少没有所述吸收材料,因此所述薄片的所述第二侧面没有变色效果。
7.根据权利要求1所限定的薄片,其中,在所述金属反射层的第一表面上具有浮雕符号,以及在与所述金属反射层的所述第一表面相对的所述金属反射层的第二表面上没有所述浮雕符号。
8.一种涂层,其包括载体和多个薄片,所述的每一个薄片都具有如权利要求1所限定的结构,其中,至少70%的所述薄片停留在所述载体上,所述薄片的所述第一侧面朝上。
9.一种制造多个如权利要求1所限定的薄片的方法,包括以下步骤:
(a)提供基底;
(b)在所述基底上沉积第一层,其中,所述第一层是所述金属反射层和所述载体排斥材料涂层中的一个;
(c)在所述第一层上沉积第二层,其中,所述第二层是所述金属反射层和所述载体排斥材料涂层中的另一个;以及
(d)从所述基底上分离所述多个薄片。
10.根据权利要求9所限定的方法,其中,所述基底是不平的基底,所述基底具有在其表面上形成框架的沟槽和在所述框架内的凹陷或凸起的区域。
11.根据权利要求9所限定的方法,其中,所述基底是不平的基底,所述基底具有在其表面上形成框架的沟槽和在所述框架内的浮雕符号。
12.根据权利要求9所限定的方法,还包括在步骤(b)和(c)之间沉积电介质层的步骤。
13.根据权利要求9所限定的方法,还包括的步骤是:在步骤(b)之后并且在步骤(c)之前沉积吸收层。
14.根据权利要求9所限定的方法,还包括的步骤是:在步骤(a)之后并且在步骤(b)之前,在基底上沉积释放层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JDS尤尼弗思公司,未经JDS尤尼弗思公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810084421.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:包括不含薄荷气味的凉爽剂的制品
- 下一篇:一种同时打两螺丝的螺丝打头机