[发明专利]包括防反射结构的光学器件有效

专利信息
申请号: 200810081806.2 申请日: 2008-04-02
公开(公告)号: CN101281295A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 哈拉尔德·琛克;提诺·詹德纳 申请(专利权)人: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王新华
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 包括 反射 结构 光学 器件
【权利要求书】:

1.一种光学器件,包括:

可偏转光学功能结构(3,4),用于与入射在其上的电磁辐射(5)互相作用;

保护结构(7),其与光学功能结构(3,4)关联,且至少部分对于电磁辐射透明;

其中,光学功能结构(3,4)以相对于保护结构(7)倾斜的方式设置,使得在光学功能结构(3,4)的非偏转位置,通过所述保护结构与光学功能结构(3,4)互相作用的电磁辐射的主光束路径(5a)相对于在所述保护结构反射的电磁辐射的次光束路径(5b)具有一个角度。

2.根据权利要求1的光学器件,其中所述保护结构(7)平行于包括可偏转光学功能结构(3,4)的基片(11)的表面。

3.根据权利要求1的光学器件,其中所述可偏转光学功能结构(3,4)包括框架(4),框架(4)包括可在其中偏转的镜面结构(3)。

4.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学器件包括用于倾斜所述可偏转的光学功能结构的装置。

5.根据权利要求4的光学器件,其中所述倾斜装置包括集成执行器,该执行器利用热、静电、压电、磁或其它物理或化学效应,提供相对于所述保护结构偏转所述可偏转光学功能结构(3,4)的力。

6.根据权利要求4的光学器件,其中所述倾斜装置包括双压电晶片元件(28a,28b)。

7.根据权利要求1的光学器件,包括在倾斜位置固定所述光学功能结构的装置。

8.根据权利要求7的光学器件,其中所述固定装置将所述光学功能结构(3,4)固定至保护结构(7)和/或基片(11)的表面。

9.根据权利要求7的光学器件,其中所述固定装置包括胶合剂、光致抗蚀剂、金属、焊料或机械固定装置。

10.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学功能结构从紫外线光谱范围、可见光光谱范围或红外线光谱范围实现与电磁辐射的互相作用。

11.根据权利要求1的光学器件,其中所述保护结构包括玻璃、塑料、硅、陶瓷或金属。

12.根据权利要求2的光学器件,其中所述基片包括硅、砷化镓、氮化镓、磷化铟或碳化硅。

13.根据权利要求1的光学器件,其中所述保护结构是光学器件设置在其中的封装的一部分。

14.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学器件是一维或二维扫描仪反射镜。

15.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学器件是相位反射镜或光调节器。

16.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学功能结构通过槽脊固定。

17.根据权利要求1的光学器件,其中还包括分离的槽脊部件。

18.根据权利要求1的光学器件,其中所述光学功能结构由微机械制造。

19.根据权利要求1的光学器件,其中所述保护结构包括连接到所述光学器件的晶片结合连接件,焊接连接件、共熔连接件或胶合连接件。

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