[发明专利]图案化磁介质及其制造方法

权利要求书

1、一种形成图案化磁介质的方法，包括：

在盘衬底上沉积材料，所述盘衬底用于数据存储装置；

纳米压印该盘衬底上的所述材料；

将所述材料处理成基本固化的材料；以及

在所述基本固化的材料上沉积磁材料。

2、根据权利要求1的方法，其中所述材料包括氢倍半硅氧烷。

3、根据权利要求1的方法，其中所述材料包括聚酰胺。

4、根据权利要求1的方法，其中所述材料包括含硅抗蚀剂。

5、根据权利要求1的方法，其中所述处理包括利用电子束。

6、根据权利要求1的方法，其中所述处理包括利用辐照。

7、根据权利要求1的方法，其中所述处理在所述纳米压印期间开始。

8、根据权利要求7的方法，其中所述处理在所述纳米压印期间进行。

9、根据权利要求7的方法，其中所述处理在所述纳米压印之后结束。

10、一种图案化介质盘，包括：

盘衬底；

沉积在所述盘衬底上的材料，其中所述材料被纳米压印且所述材料被转化成基本固化的材料；以及

沉积在所述基本固化的材料上的磁材料。

11、根据权利要求10的图案化介质盘，其中所述材料包括氢倍半硅氧烷。

12、根据权利要求10的图案化介质盘，其中所述材料包括聚酰胺基聚合物。

13、根据权利要求10的图案化介质盘，其中所述材料包括含硅抗蚀剂。

14、根据权利要求10的图案化介质盘，其中所述基本固化的材料包括二氧化硅。

15、根据权利要求10的图案化介质盘，其中通过选自由电子束、热处理、光学处理、辐照、以及冷却构成的组的工艺，将所述材料转化成所述基本固化的材料。

16、根据权利要求10的图案化介质盘，其中所述材料在被纳米压印时开始被转化。

17、根据权利要求16的图案化介质盘，其中所述转化在所述纳米压印期间进行。

18、根据权利要求16的图案化介质盘，其中所述转化在所述纳米压印之后结束。

19、一种计算机可用介质上的应用程序指令，其中该指令在执行时实现一方法，该方法包括：

在盘衬底上沉积材料，所述盘衬底用于数据存储装置；

纳米压印该盘衬底上的所述材料；

将所述材料转化成基本固化的材料；以及

在所述基本固化的材料上沉积磁材料。

20、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述材料包括氢倍半硅氧烷。

21、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述材料包括聚酰胺基聚合物。

22、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述材料包括含硅抗蚀剂。

23、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述转化通过选自由电子束、热处理、光学处理、辐照和冷却构成的组的工艺进行。

24、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述转化在所述纳米压印期间开始且在所述纳米压印之后结束。

25、根据权利要求19的应用程序指令，其中所述转化在所述纳米压印期间进行。