[发明专利]多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器无效
申请号: | 200810069291.4 | 申请日: | 2008-01-23 |
公开(公告)号: | CN101221995A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 熊平;李华高;白雪平;龙飞;李立;陈红兵;李仁豪 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108 |
代理公司: | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 | 代理人: | 侯懋琪 |
地址: | 400065重庆市南*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 敏感 膜光腔 结构 肖特基势垒 红外探测器 | ||
1.一种多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,它包括:金属反射镜(1)、光腔介质(2)、硅化物敏感膜(3)、N型保护环(4)、N+电极、P+电极、P型衬底(5)和抗反射膜(7),其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)可有多层;两两硅化物敏感膜(3)间及其与光腔介质(2)间都夹有P型无定形硅(6);各层硅化物敏感膜(3)都与N型保护环(4)连接。
2.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:各层硅化物敏感膜(3)作为整体把其间的P型无定形硅(6)完全包裹并与N型保护环(4)连接;光腔介质(2)将最顶层的P型无定形硅(6)和硅化物敏感膜(3)外表面完全覆盖。
3.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)有三层,则共有三层P型无定形硅(6),其中两层P型无定形硅(6)夹在三层硅化物敏感膜(3)间,还有一层P型无定形硅(6)覆盖在最顶层的硅化物敏感膜(3)之上。
4.根据权利要求3所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的三层硅化物敏感膜(3)和三层P型无定形硅(6)的总厚度为5~25nm。
5.根据权利要求4所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)厚度在2nm以内。
6.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的P型无定形硅(6),其掺杂浓度为1014~1017cm-3。
7.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的P型无定形硅(6),其掺杂浓度为1018~1021cm-3。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的