[发明专利]多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器无效

专利信息
申请号: 200810069291.4 申请日: 2008-01-23
公开(公告)号: CN101221995A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 熊平;李华高;白雪平;龙飞;李立;陈红兵;李仁豪 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108
代理公司: 重庆弘旭专利代理有限责任公司 代理人: 侯懋琪
地址: 400065重庆市南*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 多层 敏感 膜光腔 结构 肖特基势垒 红外探测器
【权利要求书】:

1.一种多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,它包括:金属反射镜(1)、光腔介质(2)、硅化物敏感膜(3)、N型保护环(4)、N+电极、P+电极、P型衬底(5)和抗反射膜(7),其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)可有多层;两两硅化物敏感膜(3)间及其与光腔介质(2)间都夹有P型无定形硅(6);各层硅化物敏感膜(3)都与N型保护环(4)连接。

2.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:各层硅化物敏感膜(3)作为整体把其间的P型无定形硅(6)完全包裹并与N型保护环(4)连接;光腔介质(2)将最顶层的P型无定形硅(6)和硅化物敏感膜(3)外表面完全覆盖。

3.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)有三层,则共有三层P型无定形硅(6),其中两层P型无定形硅(6)夹在三层硅化物敏感膜(3)间,还有一层P型无定形硅(6)覆盖在最顶层的硅化物敏感膜(3)之上。

4.根据权利要求3所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的三层硅化物敏感膜(3)和三层P型无定形硅(6)的总厚度为5~25nm。

5.根据权利要求4所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的硅化物敏感膜(3)厚度在2nm以内。

6.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的P型无定形硅(6),其掺杂浓度为1014~1017cm-3

7.根据权利要求1所述的多层敏感膜光腔结构肖特基势垒红外探测器,其特征在于:所述的P型无定形硅(6),其掺杂浓度为1018~1021cm-3

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