[发明专利]一种激光共聚焦显微系统有效
申请号: | 200810068031.5 | 申请日: | 2008-06-25 |
公开(公告)号: | CN101614867A | 公开(公告)日: | 2009-12-30 |
发明(设计)人: | 宋体涵 | 申请(专利权)人: | 清溢精密光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 聚焦 显微 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种激光共聚焦显微系统。
背景技术
激光共聚焦显微系统是激光微细加工设备用的显微观察和对准系统。此系统还可以将激光整形并聚焦到指示区域。现有技术激光共聚焦显微系统采用激光引入光轴与观察显微物镜同轴光路,其总系统的光路长度较长,大于观察显微系统长度,重心较高,导致外界与运动部件的微量震动非常容易使引入的激光光轴产生偏差而影响了微细加工的精度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是,提供一种激光共聚焦显微系统,能够提高激光微细加工的精度。
为了解决上述技术问题,本发明提供一种激光共聚焦显微系统,包括显微成像部分和激光引入部分,所述显微成像部分具有第一光轴,所述激光引入部分具有第二光轴。所述第一光轴与第二光轴平行,于所述第二光轴上设置有第一反射镜,于所述第一光轴上设置有合束镜,所述第二光轴通过所述第一反射镜和所述合束镜与所述第一光轴汇合;所述显微成像部分包括用于观测显微物面的显微物镜,所述显微物镜与所述合束镜同光轴设置;所述显微成像部分还包括用于光线聚焦的第一结像镜、用于将聚焦光线反射的第二反射镜和用于接收反射光线并成像的成像面,所述显微物镜、所述合束镜、所述第一结像镜和第二反射镜依次同光轴设置;所述激光引入部分包括用于接收引入激光的耦合镜、用于将调节后的激光反射的第一反射镜和用于将反射激光聚焦的第二结像镜,所述耦合镜和第一反射镜依次同光轴设置,所述第一反射镜、第二结像镜和合束镜依次同光轴设置。
显微成像部分第一光轴与第二光轴平行设置后,与现有技术的同轴设置相比,可以使激光共聚焦显微系统的光轴长度大大减短,并且可以使该系统的结构更加紧凑和稳定,从而提高微细加工的精度。
附图说明
图1是本发明实施例提供的激光共聚焦显微系统的主视示意图;
图2是本发明实施例提供的显微镜成像部分的侧视示意图;
图3是本发明实施例提供的激光引入部分的侧视示意图。
具体实施方式
为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图1和图2,本发明实施例提供一种激光共聚焦显微系统,包括显微成像部分1和激光引入部分2,显微成像部分1具有第一光轴10,激光引入部分2具有第二光轴20,第一光轴10与第二光轴20平行。于第二光轴20上设置有第一反射镜21,于第一光轴10上设置有合束镜12,第二光轴20通过第一反射镜21和合束镜12与第一光轴10汇合。
具体地,上述显微成像部分1包括依次同光轴设置的显微物镜11、合束镜12、第一结像镜13、第二反射镜14和成像面15。被观察显微物面3上的携带物面信息的光线进入显微物镜11后,穿过合束镜12,被第一结像镜13聚焦,经第二反射镜14转折反射至成像面15,用户即可从成像面15观察显微物面。
请结合图1和图3,激光引入部分2包括耦合镜22、可变狭缝23、第一反射镜21和第二结像镜24,其中,耦合镜22、可变狭缝23和第一反射镜21依次同光轴连接,经第一反射镜21改变光路角度后,第一反射镜21、第二结像镜24和合束镜12也依次同光轴设置。引入的激光穿过耦合镜22后,经过可变狭缝23以调节激光照射宽度,并被第一反射镜21转折反射,反射光线经第二结像镜24聚焦后,其第二光轴20在合束镜12处与第一光轴10汇合,从而激光引入部分2的光线经合束镜12反射后,进入显微物镜11,到达显微物面3。
此外,于显微成像部分1中的第一结像镜13与合束镜12之间设置同光轴的第三反射镜16,用于引入反射照明部分4。该反射照明部分4包括依次设置的反射光源41、第一透镜42、第四反射镜43和第二透镜44。反射光源41穿过第一透镜42聚焦,经第四反射镜43反射后,被第二透镜44聚焦,聚焦后的光线照射于第三反射镜16上。这样,反射照明部分4将反射光源41引入显微成像部分1,再通过显微物镜11形成同轴反射照明,用以对显微物面3进行照明。
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