[发明专利]一种激光共聚焦显微系统有效

专利信息
申请号: 200810068031.5 申请日: 2008-06-25
公开(公告)号: CN101614867A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 宋体涵 申请(专利权)人: 清溢精密光电(深圳)有限公司
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 代理人: 张全文
地址: 518057广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 聚焦 显微 系统
【权利要求书】:

1.一种激光共聚焦显微系统,包括显微成像部分和激光引入部分,所述显微成像部分具有第一光轴,所述激光引入部分具有第二光轴,其特征在于:所述第一光轴与第二光轴平行,于所述第二光轴上设置有第一反射镜,于所述第一光轴上设置有合束镜,所述第二光轴通过所述第一反射镜和所述合束镜与所述第一光轴汇合;所述显微成像部分包括用于观测显微物面的显微物镜,所述显微物镜与所述合束镜同光轴设置;所述显微成像部分还包括用于光线聚焦的第一结像镜、用于将聚焦光线反射的第二反射镜和用于接收反射光线并成像的成像面,所述显微物镜、所述合束镜、所述第一结像镜和第二反射镜依次同光轴设置;所述激光引入部分包括用于接收引入激光的耦合镜、用于将调节后的激光反射的第一反射镜和用于将反射激光聚焦的第二结像镜,所述耦合镜和第一反射镜依次同光轴设置,所述第一反射镜、第二结像镜和合束镜依次同光轴设置。

2.如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述激光共聚焦显微系统还包括反射照明部分,所述反射照明部分包括依次设置的反射光源、将反射光线聚焦的第一透镜、将聚焦光线反射的第四反射镜和将反射光线聚焦的第二透镜,于所述第一结像镜与合束镜之间设置有用于接收穿过所述第二透镜的聚焦光线的第三反射镜,所述第三反射镜位于所述第一光轴上。

3.如权利要求2所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述反射光源为紫外光。

4.如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述激光引入部分还包括用于调节激光照射宽度的可变狭缝,所述耦合镜、可变狭缝和第一反射镜依次同光轴设置。

5.如权利要求4所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述激光引入部分还包括光斑指示部分,所述光斑指示部分包括指示光源、接收指示光线并将指示光线聚集的第三透镜、第一球面镜和第二球面镜,所述指示光源、第三透镜、第一球面镜、第二球面镜和还可用于将聚焦后的指示光线反射至所述第二光轴的所述耦合镜依次同光轴设置。

6.如权利要求5所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述指示光源为紫外光。

7.如权利要求1所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述显微物面上相对所述显微物镜的另一侧还包括透射照明部分,所述透射照明部分包括透射光源、接收所述透射光源的并将光线聚焦的非球面透镜、第一球面镜、第二球面镜、用于将聚焦光线反射的第五反射镜和用于将反射光线聚焦的聚焦镜,所述透射光源、非球面透镜、第一球面镜、第二球面镜、第五反射镜同光轴设置,所述第五反射镜和聚焦镜设置于所述第一光轴上,且位于所述显微物面的下侧。

8.如权利要求7所述的激光共聚焦显微系统,其特征在于:所述透射光源为紫外光。

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