[发明专利]表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法

权利要求书

1.一种表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法步骤如下：  一、用磁控溅射法，将基体放入真空室靶台上，在本底真空度为10^-4～10^-2Pa的条件下，通入氩气用氩离子对基体溅射清洗15～30min；二、在氩气与氮气、乙炔或甲烷三种气体中的一种的气体流量比为2～17∶1，总气压为0.1～1.0Pa，磁控溅射电流为0.2～50A，溅射电压为300～600V，基体偏压为-50～-400V，沉积温度为80℃～400℃的条件下，对由金属靶1和金属靶2组成的对靶进行溅射，使金属层和陶瓷层交替沉积，每层膜厚度周期为2nm～500nm，最后膜层最外层为陶瓷层，膜层总厚度为0.1μm～10μm，金属银、铜、锌中的一种或几种在陶瓷膜层中的含量为2～50at.％。

2.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤一中的基体为陶瓷、塑料、不锈钢、高速钢、硬质合金或铝合金。

3.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤一中的磁控溅射为直流磁控溅射或射频磁控溅射。

4.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属靶1为钛、铬或锆。

5.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属靶1为钛-银合金靶、钛-铜合金靶、钛-锌合金靶、铬-银合金靶、铬-铜合金靶、铬-锌合金靶、锆-银合金靶、锆-铜合金靶或锆-锌合金靶。

6.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属靶1为钛-银拼靶、钛-铜拼靶、钛-锌拼靶、铬-银拼靶、铬-铜拼靶、铬-锌拼靶、锆-银拼靶、锆-铜拼靶或锆-锌拼靶。

7.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属靶2为银、铜、锌、银-铜合金靶、铜-锌合金靶、银-锌合金靶或银-铜-锌合金靶。

8.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属靶2为银-铜拼靶、铜-锌拼靶、银-锌拼靶或银-铜-锌拼靶。 

9.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中陶瓷层为TiC、TiN、CrN或ZrN。

10.根据权利要求1所述的表面抗菌、耐磨的金属/陶瓷纳米多层膜的制备方法，其特征在于步骤二中金属层为Ag、Cu、Zn、Cu-Zn、Ag-Cu、Ag-Zn或Ag-Cu-Zn金属层。