[发明专利]双膜交替腐蚀制作多级微反射镜的方法

权利要求书

1.一种双膜交替腐蚀制作多级微反射镜的方法，其特征在于包括如下步骤：

(一)、选用硅片、玻璃、二氧化硅、碳化硅、钼片或石英片作为多级微反射镜的基片，所述基片的双面抛光且表面粗糙度为0.2nm～1μm，并对其进行清洗处理；

(二)、将两种不同的膜层材料交替沉积于基片表面，形成交替的膜层，每单个膜层厚度为h，共N层，总沉积厚度为Nh；

(三)、在步骤(二)制作完成的膜层上表面涂敷高抗蚀光刻胶，用第一块光刻版进行第一次光刻，形成所需掩蔽图形；设定多级微反射镜总宽度为L，则第一块光刻版的明条纹和暗条纹的宽度各为L/2¹；然后分别用对应于两种膜层材料的腐蚀液交替湿法腐蚀或干法刻蚀两种薄膜材料共N/2层，去除光刻胶，清洗；

(四)、在步骤(三)制作完成的样品上表面涂敷高抗蚀光刻胶，然后用第二块光刻版进行第二次光刻，形成所需掩蔽图形，第一块光刻版的明条纹和暗条纹的宽度各为L/2²；然后分别用对应于两种膜层材料的腐蚀液交替湿法腐蚀或干法刻蚀两种薄膜材料N/4层；去除光刻胶，清洗；

(五)、在步骤(四)制作完成的样品上表面涂敷高抗蚀光刻胶，用第三块光刻版进行第三次光刻，形成所需掩蔽图形，第三块光刻版的明条纹和暗条纹的宽度各为L/2³；然后分别用对应于两种膜层材料的腐蚀液交替湿法腐蚀或干法刻蚀两种薄膜材料N/8层；去除光刻胶，清洗；以此类推，直至光刻后只腐蚀一层薄膜，得到设定级数的阶梯结构；

(六)、在步骤(五)得到的阶梯结构的上表面沉积增反膜层。

2.根据权利要求1所述的双膜交替腐蚀制作多级微反射镜的方法，其特征在于增反膜层上沉积保护膜层。

3.根据权利要求2所述的双膜交替腐蚀制作多级微反射镜的方法，其特征在于所述的保护膜层材料采用MgF₂、Al₂O₃或SiO₂。