[发明专利]用于785纳米波段熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅无效
| 申请号： | 200810041642.0 | 申请日： | 2008-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN101339264A | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | 周常河;冯吉军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 785 纳米 波段 熔融 石英 透射 偏振 无关 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于785纳米波段的熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅，是一种矩形高密度深刻蚀光栅，光栅的占空比为0.5，其特征在于该光栅的周期的取值范围为1064-1072纳米、刻蚀深度范围为2.580-2.602微米。
2.根据权利要求1所述的熔融石英透射1×3偏振无关分束光栅，其特征在于所述光栅的周期为1068纳米，刻蚀深度为2.591微米。
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