[发明专利]杂芴基高分子光电功能材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810024523.4 申请日: 2008-03-25
公开(公告)号: CN101250406A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 黄维;陈润锋;范曲立 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;C08G61/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 叶连生
地址: 210003江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 杂芴基 高分子 光电 功能 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种杂芴基高分子光电功能材料,其特征在于其分子链中含有杂芴链节,具有如下结构:

其中,R1、R2为苯基、噻吩基、吡啶基、链长为C1~C18的烷基,或为氧取代基,或者不存在;

R3为甲基、甲氧基、烷氧基、特丁基等邻对位取代基中的一种;

X为锗、锡、硼、磷、硫、铟、镓、汞等杂原子中的一种;

Ar为苯环、噻吩、吡咯、吡啶、联吡啶、9,9’一二取代芴、噁二唑以及他们衍生物中的一种;

m和n为聚合物的链节数。

2.根据权利要求1所述的含杂芴的高分子光电功能材料,其特征在于:R1、R2为苯基,R3为甲氧基,X为锗原子,Ar为9,9’-二辛基芴,其结构式为:

3.根据权利要求1所述的含杂芴的高分子光电功能材料,其特征在于:R1、R2为甲基,R3为辛氧基,X为锗原子,Ar为同样取代基的锡芴,其结构式为:

4.根据权利要求1所述的含杂芴的高分子光电功能材料,其特征在于:R1为苯基,R3为异丁基,X为硼原子,Ar是R1为苯基R3为辛氧基X为磷原子的杂芴,其结构式为:

5.根据权利要求1所述的含杂芴的高分子光电功能材料,其特征在于:R3为甲基,X为汞原子,Ar是R1为辛基R2为氧基R3为辛氧基X为磷原子的杂芴,其结构式为:

6.根据权利要求1所述的含杂芴的高分子光电功能材料,其特征在于:R3为辛氧基,X为硫原子,Ar是R3为辛氧基X为硫原子的杂芴,其结构式为:

7.一种如权利要求1所述含杂芴的高分子光电功能材料的制备方法,其特征在于具体合成步骤如下:

步骤一:2,7-二溴杂芴单体的合成

利用碘在与丁基锂或者镁反应时比溴活泼且具有选择性反应的特点,将3,3’-二取代-4,4’-二溴-6,6’-二碘联苯与丁基锂或者镁反应生成3,3’-二取代-4,4’-二溴-6,6’-二锂联苯或者3,3’-二取代-4,4’-二溴-6,6’-二镁碘联苯,该有机金属中间体与合适二取代的杂原子反应就可以得到2,7-二溴杂芴单体;

步骤二:Ar单体的合成

两端双溴代的Ar在与丁基锂或者镁反应后,与三异丙基硼酸酯反应,经过水解得到两段带硼酸的Ar基团,进一步在甲苯溶液中与丙二醇回流反应,得到两端带硼酸酯的Ar基团;或者,两端双溴代的Ar在与丁基锂或者镁反应后,与2-异丙氧基-4,4’,5,5’-四甲基-1,3,2-二氧硼杂环戊烷“2-Isopropoxy-4,4’,5,5’-tetramethyl-1,3,2-dioxaboralane”反应,得到得到两端带硼酸酯的Ar基团;

步骤三:聚合物的合成

将上述2,7-二溴杂芴单体与等摩尔量两段带有硼酸酯的Ar基团置于甲苯、四氢呋喃溶剂中,用碳酸钾或者碳酸钠和三苯基磷钯催化剂进行Suzuki聚合反应,所得产物经过甲醇多次沉淀和丙酮索氏提取,得到杂芴和Ar基团的共轭聚合物;或者,将上述2,7-二溴杂芴单体与等摩尔量两段带有硼酸酯的Ar基团置于甲苯、四氢呋喃溶剂中,用四乙基氢氧化胺、三环己烷基磷和醋酸钯作为催化剂进行Suzuki聚合反应,所得产物经过甲醇多次沉淀和丙酮索氏提取,得到杂芴和Ar基团的共轭聚合物;或者,将上述2,7-二溴杂芴单体与等摩尔量两段带有硼酸酯的Ar基团置于甲苯、四氢呋喃溶剂中,用磷酸钾、三叔丁基磷和Pd2(dba)3作为催化剂进行Suzuki聚合反应,所得产物经过甲醇多次沉淀和丙酮索氏提取,得到杂芴和Ar基团的共轭聚合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学,未经南京邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810024523.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top