[发明专利]用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方法和依照该方法获得的厚壁中空圆柱体

权利要求书

1.用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体(1)的方法，该方法包括 以下步骤：

a)提供合成石英玻璃的内管(3’)，其具有由内壁限定的内孔(2)，

b)用SiO₂烟灰层(4’)包覆该内管(3’)，

c)烧结该SiO₂烟灰层，形成该中空圆柱体，

其特征在于在烧结过程中通过将冷却流体通过该内孔对该内壁进 行强制冷却而将内管的内壁的表面温度保持在软化温度之下，并且所述 表面温度设定在所述内管(3’)的合成石英玻璃的下限冷却温度之上， 其中所述下限冷却温度是依照DIN ISO 7884(1998)测定的玻璃粘度为 10^14.5dPa·s的温度。

2.权利要求1的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方法，其特 征在于在烧结过程中将内管(3’)的内壁上的表面温度限制在低于 1400℃。

3.权利要求2的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方法，其特 征在于在烧结过程中将内管(3’)的内壁上的表面温度限制在低于 1250℃。

4.权利要求1的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方法，其特 征在于使用无氢惰性气体作为该冷却流体。

5.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方 法，其特征在于在封闭冷却回路中引导该冷却流体。

6.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方 法，其特征在于使用具有小于20mm壁厚的内管(3’)。

7.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方 法，其特征在于在区域型烧结方法中将该烟灰层(4’)玻璃化，其中将 包覆有SiO₂烟灰层的内管从一端开始提供到与内管长度相比较短的加 热区域，在其中连续加热以使所述SiO₂烟灰层被分部分烧结。

8.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方 法，其特征在于使用包括在熔体中不用任何工具制备的内壁的内管(3’)。

9.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方 法，其特征在于在烧结之后，对该石英玻璃的中空圆柱体(1)进行退 火过程。

10.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的 方法，其特征在于在玻璃化之后清洁石英玻璃的该中空圆柱体(1)的 内壁。

11.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的 方法，其特征在于该内管(3’)的石英玻璃提供有导致折射率降低的掺 杂剂。

12.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的 方法，其特征在于该内管(3’)由具有小于1wt ppm羟基含量的石英玻 璃组成。

13.权利要求12的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的方法，其 特征在于该内管(3’)由具有小于0.1wt ppm羟基含量的石英玻璃组成。

14.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的 方法，其特征在于将依照方法步骤(c)获得的中空圆柱体作为用于执 行方法步骤(a)和(b)的内管。

15.权利要求1～4之一的用于制备合成石英玻璃的中空圆柱体的 方法，其特征在于提供具有一个或多个具有卵形或多边形横截面的内孔 的内管。