[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料

说明书

技术领域

本发明涉及含有聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法， 由该涂布液形成的低折射率被膜以及具有该被膜的防反射材料。

背景技术

一直以来，已知如果在基材的表面形成具有小于该基材的折射率的低 折射率的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率降低。并且，上述显 示出降低了的光反射率的低折射率被膜被作为防光反射膜使用，用于各种 基材表面。

例如，专利文献1揭示了形成防反射膜的方法，该方法是将作为Mg源 的镁盐或烷氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应生成的MgF₂微粒的 醇分散液或为了膜强度的提高而在其中添加了四烷氧基硅烷等的分散液制 成涂布液，将其涂布于玻璃基材，以100～500℃的温度热处理，在基材上 形成显示出低折射率的防反射膜。

此外，专利文献2揭示了制作被膜的技术方案，它是将平均分子量不 同的2种以上的四烷氧基硅烷等的水解缩聚物与醇等溶剂混合形成为涂敷 液，由该涂敷液形成被膜时，再加上对上述混合时的混合比例、相对湿度 进行控制等手段，藉此来制作被膜的方法。被膜可通过以250℃以上的温度 加热得到，显示出1.21～1.40的折射率，具有直径50～200nm的微坑 (micropit)或凹凸，具有60～160nm的厚度。被膜可形成于玻璃基板上， 制得低反射玻璃。

此外，专利文献3揭示了低反射率玻璃，该低反射率玻璃由玻璃、形 成于该玻璃的表面的具有高折射率的下层膜及形成于该下层膜的表面的具 有低折射率的上层膜构成。上层膜的形成以下述方法进行：室温下在乙酸 等催化剂的存在下，将CF₃(CF₂)₂C₂H₄Si(OCH₃)₃等具有多氟碳链(poly fluorocarbon chain)的含氟硅化合物和相对于该化合物为5～90质量％的 Si(OCH₃)₄等硅烷偶联剂在醇溶剂中水解，之后过滤，将藉此调制出的共缩 合体溶液涂布于上述下层膜上，以120～250℃的温度加热。

还有，专利文献4揭示了一种涂布液，该涂布液是将以特定比例含有 Si(OR)₄表示的硅化合物、CF₃(CF₂)_nCH₂CH₂Si(OR¹)₃表示的硅化合物、R²CH₂OH 表示的醇和草酸的反应混合物在无水条件下以40～180℃的温度加热，藉此 生成的聚硅氧烷的溶液。将该涂布液涂布于基材表面，以80～450℃的温度 使其热固化，藉此可形成具有1.28～1.38的折射率和90～115度的水接触 角的被膜。

专利文献1：日本专利特开平05-105424号公报

专利文献2：日本专利特开平06-157076号公报

专利文献3：日本专利特开昭61-010043号公报

专利文献4：日本专利特开平09-208898号公报

发明的揭示

对于上述在各种显示装置等中使用的防反射膜，近年来，在液晶和等 离子体等显示装置的大型化、轻量化和薄型化的进程中，为了轻量化和高 透明化等目的，其使用的防反射基材、特别是防反射膜存在膜厚变薄的倾 向，出现因热而受到的损伤增大的问题。因此，比以前更迫切地希望开发 出能通过膜不会受到损伤的程度的低温处理得到防反射基材的在较低的温 度下固化的热固化型被膜形成用涂布液。然而，上述已有的低折射率被膜 的固化温度不够低，希望进一步降低固化温度。

因此，本发明的目的是提供可形成具备在较低的温度下固化、高硬度 的耐擦伤性及低折射率这些优良特性的被膜的低折射率被膜形成用涂布液 及其制造方法，以及由该被膜形成用涂布液得到的被膜及使用该被膜的防 反射材料。

本发明者为达成上述目的进行了认真研究，结果发现，由下述涂布液 得到的被膜显现出在较低的温度下固化、高硬度的耐擦伤性及低折射率的 特性；所述涂布液含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)、碳数3～ 12的含氟胺化合物(B)以及有机溶剂(C)。