[发明专利]陶瓷过滤器及其再生方法无效

专利信息
申请号: 200780041336.0 申请日: 2007-10-18
公开(公告)号: CN101534935A 公开(公告)日: 2009-09-16
发明(设计)人: 矶村学 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: B01D63/06 分类号: B01D63/06;B01D71/02;B01D69/12;B01D65/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟 晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 陶瓷 过滤器 及其 再生 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及陶瓷过滤器及该过滤器的再生方法。更具体地,本发明涉及用 较少成膜次数形成并且具有高的透水性和高的分离性的陶瓷过滤器,以及该过 滤器的再生方法。

背景技术

迄今已知在多孔基体构件上形成无机分离膜的各种方法。例如,已知有热 涂覆工艺(参见非专利文献1)。这是用含有硅溶胶的布擦拭管状基体构件以 涂覆溶胶,从而在受热的管状基体构件的外表面上形成无机分离膜的方法。

还已知有通过形成过滤膜,在具有管状或圆柱形藕根块状的多孔基体构件 的内表面上形成无机分离膜的方法(参见专利文献1)。将该多孔基体构件的 外表面保持在比其内表面低的压力下,该内表面与溶胶液体接触以在该多孔基 体构件的内表面上形成膜。

另一方面,具有优异耐热性和热稳定性的分离膜的例子包括碳质膜,并且 在多孔基体构件上形成的碳质膜是已知的。

[专利文献1]日本专利申请特开2006-212480

[非专利文献1]Separation and Purification Technology 25(2001)151-159

作为无机分离膜,例如,二氧化硅膜具有高渗透性和高分离性,但是为了 在多孔基体构件上形成作为分离膜的二氧化硅膜,不得不将四种或五种具有不 同粒径的硅溶胶分别几次成膜,成膜共进行十次以上,这增加了生产成本。

另一方面,当在多孔基体构件上形成碳质膜时,可以将具有相同组成的涂 覆液体成膜约几次,可以经济地制造该膜,但是该碳质膜的渗透性比无机分离 膜例如二氧化硅膜差。

发明内容

本发明的目的是提供用较少的成膜次数形成并且具有高的透水性和高的 分离性的陶瓷过滤器。还提供了该陶瓷过滤器的再生方法,该方法能够在该过 滤器恶化的情况下经济地再生该陶瓷过滤器。

本发明人已发现通过采用在多孔基体构件上形成碳质膜并在该碳质膜上 形成无机分离膜的构造能够实现上述目的。还发现在陶瓷过滤器恶化的情况 下,热处理该过滤器以重新形成碳质膜和无机分离膜,由此能够重复使用该过 滤器。也就是说,根据本发明,提供下列陶瓷过滤器以及该过滤器的再生方法。

一种陶瓷过滤器,包括:由陶瓷多孔体形成的多孔基体构件;在该多 孔基体构件上形成的碳质膜;以及在该碳质膜上形成的无机分离膜。

根据上述[1]所述的陶瓷过滤器,其中,所述无机分离膜是二氧化硅膜、 二氧化钛膜、氧化锆膜和沸石膜中的一种。

根据上述[1]所述的陶瓷过滤器,用于脱水,其中所述无机分离膜是二 氧化硅膜。

根据上述[1]-[3]中任一项所述的陶瓷过滤器,其中,所述碳质膜具有 0.1~2μm的膜厚。

一种陶瓷过滤器的再生方法,包括:热处理上述[1]-[4]中任一项所述 的陶瓷过滤器,以将所述碳质膜和所述无机分离膜从所述多孔基体构件上去 除;然后在该多孔基体构件上形成新的碳质膜,并且在该碳质膜上形成无机分 离膜。

采用其中在多孔基体构件上形成碳质膜并在该碳质膜上形成无机分离膜 的构造。其结果是,在陶瓷过滤器恶化的情况下,可以热处理该过滤器,以从 该多孔基体构件容易地除去碳质膜和无机分离膜,并且可以重新形成碳质膜和 无机分离膜,从而经济地再生该陶瓷过滤器。当无机分离膜是二氧化硅膜时, 成膜次数可以少,并且可以获得用于脱水的具有高渗透性和高分离性的陶瓷过 滤器。

附图说明

图1是根据本发明一个实施方式的陶瓷过滤器的剖视图;

图2是显示根据本发明该实施方式的陶瓷过滤器的立体图;

图3是用本发明的陶瓷过滤器处理混合液体的说明图;和

图4是本发明的陶瓷过滤器的再生方法的说明图。

实施本发明的最佳方式

下文将参照附图描述本发明的实施方式。本发明不局限于下列实施方式, 并且能够在不脱离本发明的范围的情况下进行变化、改进或提高。

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