[发明专利]呼吸用面罩系统

说明书

技术领域

本发明涉及能够在适合于睡眠时无呼吸症候群的治疗的CPAP (Continuous Positive Airway Pressure)疗法、适合于换气不充分 的NIPPV(Nasal Intermittent Positive Pressure Ventilation)疗 法等中使用的呼吸用面罩系统。

背景技术

作为睡眠时无呼吸症候群的治疗方法最有效的方法之一有持续正 压呼吸法(CPAP)。在该治疗方法中，采用在睡眠时对使用者的鼻孔部 或鼻孔和嘴或面部供给400～2000Pa左右的正压气体的呼吸辅助装置， 但近年来，还使用搭载有在治疗中根据无呼吸的发生状态自动地调节 压力的功能的装置。并且，作为换气不充分的治疗方法最有效的方法 之一有无创间歇正压换气呼吸法(NIPPV)，采用对使用者的鼻孔部供 给400～2400Pa左右的间歇的正压气体的呼吸辅助装置。对鼻孔施加 压力来供给正压气体的系统被称为呼吸用鼻面罩系统，按压鼻孔和嘴 来供给正压气体的面罩被称为全面罩，覆盖整个面部来供给正压气体 的面罩被称为覆盖式全面罩。

下面，以呼吸用鼻面罩系统为例进行叙述，但其内容一般也适用 于包括全面罩和覆盖式全面罩等在内的呼吸用面罩系统。

为了对使用者的鼻孔部(在全面罩的情况下为鼻和嘴，在覆盖式 全面罩的情况下为整个面部)供给持续的正压，例如如图1所示，通 常，呼吸用鼻面罩系统具备：与使用者的面部紧贴的中空的鼻面罩垫 (4)；供给呼吸用正压气体且将鼻面罩垫(4)保持在预定的位置的框 架(3)；与该框架(3)连接的头套(16)；以及连接该头套(16)和 框架(3)的伸缩性的头套带(17、18)。所述的呼吸用鼻罩系统借助 头套带(17、18)的张力，使鼻面罩垫(4)与使用者的面部紧贴(例 如参照专利文献1、专利文献2、专利文献3)。

然而，已知的是即使是曾经正常佩戴的呼吸用鼻面罩系统，在佩 戴过程中也会由于各种要因而产生鼻面罩垫的偏移。因此，与各种原 因对应地采取防止或缓和偏移的对策。例如也包括使得由于与床上用 品的接触等而产生的框架部的偏移不会影响鼻面罩垫的意思，在专利 文献1和专利文献2所记载的呼吸用鼻面罩系统中，在框架部和鼻面 罩垫的面部接触部之间设置有蛇腹部。并且，为了缓和由于被与框架 连接的正压气体供给软管牵拉而引起的框架部的偏移，在专利文献4 所记载的呼吸用鼻面罩系统中，在正压气体供给软管的连接部周围的 壁面使用具有挠性的材料。

专利文献1：日本特开平11-000397号公报

专利文献2：国际公开WO01/097893号小册子

专利文献3：国际公开WO98/04310号小册子

专利文献4：国际公开WO96/17643号小册子

然而，即使在不对框架部等施加特别的来自外部的力的状态下， 例如在使用者使头部上下、左右运动的情况下，也会产生要使鼻面罩 垫部偏移的力，可知鼻面罩垫部处于偏移的状态。即使停止头部的运 动，这种偏移也不会马上消除，大多情况是暂时保持该状态。

这种偏移的原因是因为，例如在使用者将面部向就寝中的右方向 倾斜的情况下，具备鼻面罩垫和框架的呼吸用鼻面罩系统因自重而要 向右下方掉落。于是，在左侧带上进一步施加张力，垫左侧按压面部， 右侧带相反地变松弛。其结果是，在垫左侧施加过度按压面部的力而 产生疼痛，右侧在面部和垫之间空开间隙而产生异常的气体泄漏。

并且，即使产生这种偏移，只要其是轻度的，则通过鼻面罩垫的 与面部的接触面的一部分(例如右侧部分)伸长，另一部分(例如左 侧部分)缩短，也能够大致维持与面部的紧贴状态。但是，即使维持 紧贴状态，使用者也会由于鼻面罩垫的不均等的压力而感到不适。即， 例如使用者在仰面的状态下将头向右倾斜时，呼吸用鼻面罩系统由于 自重而要向右下偏移。于是，将框架保持在预定位置的头套由于与头 部的摩擦而不运动，因此对左侧带施加张力，右侧带变松弛。由此， 面罩垫的接触部相对于面部倾斜，因此，使用者会由于鼻面罩垫的不 均等的压力而感到不适。

在这种偏移的程度进一步增大时，已无法利用鼻面罩垫的面部接 触面的伸缩完全吸收，不久便会从接触面产生呼吸用正压气体的泄漏。

发明内容