[发明专利]熔融石英玻璃及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780033716.X 申请日: 2007-09-11
公开(公告)号: CN101511744A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 新井一喜;高畑努;桥本真吉;内田雅人;山田修辅;原田美德;堀越秀春 申请(专利权)人: 东曹株式会社;东曹SGM株式会社
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 熔融 石英玻璃 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种熔融石英玻璃,其特征在于,对于波长245nm的紫 外光,10mm厚度时的内透过率为95%以上,且OH含量为5ppm 以下,Li、Na、K、Mg、Ca、Cu的含量各自为不足0.1ppm,1215℃ 下的粘度系数为1011.5Pa·s以上,Al添加量为0.1~3ppm,1050℃ 下在大气中放置24小时时的铜离子的热扩散中,在距表面的深 度超过20μm起至100μm的区域中的Cu离子的扩散系数为 1×10-10cm2/秒以下。

2.根据权利要求1所述的熔融石英玻璃,其特征在于,对 于波长245nm的紫外光,10mm厚度时的内透过率为98%以上。

3.根据权利要求1或2所述的熔融石英玻璃,其特征在于, 1215℃下的粘度系数为1012.0Pa·s以上。

4.一种权利要求1~3中任意一项所述的熔融石英玻璃的 制造方法,其特征在于,将原料硅石粉末方英石化后在非还原 性气氛中熔融。

5.根据权利要求4所述的熔融石英玻璃的制造方法,其特 征在于,通过等离子弧熔融法在非还原性气氛中进行熔融。

6.一种半导体制造装置用部件,其特征在于,由权利要求 1~3中任意一项所述的熔融石英玻璃形成。

7.一种液晶制造装置用部件,其特征在于,包含权利要求 1~3中任意一项所述的熔融石英玻璃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东曹株式会社;东曹SGM株式会社,未经东曹株式会社;东曹SGM株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780033716.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top