[发明专利]从研磨剂浆料废液中回收研磨剂的方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及从研磨剂浆料废液中回收研磨剂的方法及装置，特别涉及 从使用以氧化铈为研磨剂的研磨剂浆料对玻璃基板进行研磨时的研磨剂浆 料废液中回收氧化铈的回收方法及装置。

背景技术

液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PD)、无机及有机电致发光显示器、 场致发射显示器(FED)等平板显示器中，使用各种组成的玻璃基板作为玻璃 基板，要求非常高的表面质量。因此，使用研磨剂浆料对玻璃基板进行镜 面研磨，作为研磨剂，优选使用尽管硬度低于玻璃基板、但可进行镜面研 磨的氧化铈。

研磨剂浆料在反复使用的过程中，不仅研磨功能劣化，变得无法使用， 而且因研磨而混入的研磨屑等会对玻璃基板造成损伤。因此，使用了数次 的研磨剂浆料通常被作为工业废弃物废弃。

但是，从资源的再利用的角度来看，不希望将研磨剂浆料废液废弃， 特别是氧化铈的资源较少，担心将来无法稳定地供应，并且氧化铈与氧化 铝研磨剂等相比价格非常高，因此希望将其再利用。

作为涉及氧化铈等研磨剂的回收及再利用的技术，例如有专利文献1～ 3。

专利文献1是如下技术：用第一步的离心分离机对玻璃研磨中排出的排 水进行处理，将水分离并形成氧化铈浓缩液，用第二步的离心分离机对该 氧化铈浓缩液进行处理，藉此回收氧化铈。专利文献2是如下技术：向使用 后的研磨剂中添加盐酸及过氧化氢并加热，藉此从所得废液中回收研磨剂。 专利文献3是如下技术：将研磨剂浆料废液加入过滤机，除去粗大杂质，然 后用具有孔径为2～100nm的UF(超滤膜)的超滤机过滤，藉此回收研磨剂。

专利文献1：日本专利特开2004-306210号公报

专利文献2：日本专利特开2003-211356号公报

专利文献3：日本专利特开平10-118899号公报

发明的揭示

然而，研磨剂浆料废液中的研磨剂与研磨时产生的二氧化硅和研磨屑 (碎玻璃和供给配管的铁粉等)混合并相互凝聚，以具有粘性的凝聚物的形 式存在。因此，如果仅如专利文献1所述进行离心分离处理，则虽可分离水， 但无法以良好的精度分离二氧化硅和研磨屑，所以存在所回收的研磨剂中 残存有大量的二氧化硅和研磨屑的缺点。此外，如专利文献2所述使用盐酸 及过氧化氢的化学性的回收方法存在盐酸及过氧化氢污染(残存于)所回收 的研磨剂的危险性较高，要将污染物回收就必需反复用水清洗的缺点。此 外，即使如专利文献3所述分多步进行过滤处理，研磨剂浆料废液中的研磨 剂也会如上所述以具有粘性的凝聚物的形式存在，因此存在滤器会在短时 间内发生筛眼堵塞、无法作为实际装置使用的缺点。例如，虽然氧化铈的 粒径为0.5～5μm左右，但即使用孔径为50μm的滤器进行过滤，也会在短 时间内发生筛眼堵塞。因此，为了消除滤器的筛眼堵塞而进行的维护要耗 费大量的时间和劳力。

本发明是鉴于上述情况而作的发明，其目的是提供一种从研磨剂浆料 废液中回收研磨剂的方法及装置，该方法及装置可高效地以高除去率从研 磨剂浆料废液中除去因研磨而混入的小粒径异物和大粒径异物，从而回收 研磨剂，并且回收装置的维护容易。

为达成上述目的，本发明提供一种从研磨剂浆料废液中回收研磨剂的 方法，该方法是从含有由研磨剂、粒径小于该研磨剂的粒径的小粒径异物 和粒径大于该研磨剂的粒径的大粒径异物凝聚形成的凝聚物的研磨剂浆料 废液中回收研磨剂的回收方法，该方法的特征在于，包括分散工序、过滤 工序和分级工序；在所述分散工序中，进行所述研磨剂浆料废液的机械性 的分散处理；在所述过滤工序中，对所述分散处理后的分散液进行过滤处 理，从所述分散液中除去所述大粒径异物；在所述分级工序中，用旋风分 离器(cyclone)对所述过滤处理后的滤液进行分级处理，将该滤液中的所述 研磨剂和所述小粒径异物分级。