[发明专利]同时具有多波长、多入射角和多方位角的光学测量系统

权利要求书

1.一种光学装置，包括：

-光源，用以提供入射光线；

-半抛物面反射器，具有反射表面和焦点，用以聚焦所述入射光 线到待测器件，其中所述入射光线在所述待测器件上反射离开，并且 反射光线提供指示所述待测器件的信息；

-探测器阵列，用以收集从所述待测器件上离开的所述反射光线。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述探测器阵列是一个探测 器矩阵，其中从所述反射器上反射的光线的位置映射到所述探测器阵 列上。

3.如权利要求1所述的装置，还包含有起偏器，其中所述入射 光线在反射离开所述反射器之前通过所述起偏器。

4.如权利要求1所述的装置，还包含有检偏器，其中所述反射 光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述检偏器。

5.如权利要求3所述的装置，还包含有检偏器，其中所述反射 光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述检偏器。

6.如权利要求1所述的装置，还包含有波长选择器，其中所述 入射光线在反射离开所述反射器之前通过所述波长选择器。

7.如权利要求1所述的装置，还包含有波长选择器，其中所述 反射光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波长选择器。

8.如权利要求6所述的装置，还包含有波长选择器，其中所述 反射光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波长选择器。

9.如权利要求1所述的装置，还包含有波片，其中所述入射光 线在反射离开所述反射器之前通过所述波片。

10.如权利要求1所述的装置，还包含有波片，其中所述反射光 线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波片。

11.如权利要求9所述的装置，还包含有波片，其中所述反射光 线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波片。

12.如权利要求1所述的装置，其中所述光源是可调光源。

13.如权利要求1所述的装置，其中所述光源是多个可选的激光 光束。

14.如权利要求1所述的装置，其中所述光源是可调的激光器。

15.如权利要求1的所述的装置，其中所述光源发出的光线通过 可调的滤光器。

16.一种光学装置，包括：

-光源，用以提供入射光线；

-起偏器，其中所述入射光线通过所述起偏器；

-半抛物面形状的反射器，具有反射面和焦点，用以聚焦所述入 射光线到待测器件，其中所述入射光线在所述待测器件上反射离开， 并且反射光线提供所述待测器件的指示信息；

-检偏器，其中所述反射光线通过所述检偏器；

-探测器阵列，用以收集从所述待测器件上反射离开的并经过检 偏之后的所述反射光线，其中所述探测器阵列是一探测器矩阵，从所 述反射器上反射的光线的位置映射到所述探测器阵列上。

17.如权利要求16所述的装置，还包含有波长选择器，其中所 述入射光线在反射离开所述反射器之前通过所述波长选择器。

18.如权利要求16所述的装置，还包含有波长选择器，其中所 述反射光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波长选择器。

19.如权利要求16所述的装置，还包含有波片，其中所述入射 光线在反射离开所述反射器之前通过所述波片。

20.如权利要求16所述的装置，还包含有波片，其中所述反射 光线在被所述探测器阵列收集之前通过所述波片。

21.一种测量和/或检测待测器件的方法，包括以下步骤：

-提供入射光线进入抛物面；

-将所述光线反射离开所述抛物面，至所述抛物面的焦点以及 待测器件上；

-收集从所述待测器件上反射，和/或透射，和/或散射，和/或 衍射的光线。