[发明专利]阳图制版平版印刷印版无效

专利信息
申请号: 200780006964.5 申请日: 2007-02-09
公开(公告)号: CN101389489A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: P·坎佩斯特里尼;M·范达姆;S·林吉尔 申请(专利权)人: 爱克发印艺公司
主分类号: B41N3/03 分类号: B41N3/03;B41C1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 林毅斌;韦欣华
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
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摘要:
搜索关键词: 制版 平版印刷
【权利要求书】:

1.一种阳图制版平版印刷印版前体,所述印版前体包含在具有 亲水性表面的糙化且阳极化的铝载体上的涂层,所述涂层包含:

(i)红外吸收剂和至少一种着色剂;

(ii)包含热敏性亲油性树脂的第一层;和

(iii)在所述第一层与所述亲水性载体之间的第二层,其中所述第 二层包含包括至少一种包含至少一个磺酰胺基团的单体单元的聚合 物;

所述印版前体的特征在于所述糙化且阳极化的铝载体表面的平 均凹坑深度等于或小于2.2μm。

2.权利要求1的印版前体,其中所述平均凹坑深度等于或小于 2.0μm。

3.权利要求1或2的印版前体,其中所述平均凹坑面积等于或 小于25μm2

4.前述权利要求中任一项的印版前体,其中所述平均凹坑体积 等于或小于55μm3

5.前述权利要求中任一项的印版前体,其中所述包括至少一个 磺酰胺基团的单体单元由以下式(I)表示:

   式(I)

其中:

R1表示氢或具有最多12个碳原子的烃基;

R2和R3独立地表示氢或烃基;

X1表示单键或二价连接基团;

Y1为由-NRj-SO2-或-SO2-NRk-表示的二价磺酰胺基团,其中Rj和Rk各自独立地表示氢、任选被取代的烷基、烷酰基、烯基、炔基、 环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、芳烷基或杂芳烷基或式-C(=N)-NH-R2的基团,其中R2表示氢或任选被取代的烷基或芳基;

Z1表示端基或二价、三价或四价连接基团,其中Z1的剩余1-3 个键与Y1连接。

6.前述权利要求中任一项的印版前体,其中所述涂层还包括在 所述第一层和所述第二层之上的阻挡层,所述阻挡层包含选自以下的 显影抑制剂:

-拒水性聚合物或共聚物;

-包含极性基团和疏水性基团的双官能化合物;或

-包含极性嵌段和疏水性嵌段的双官能嵌段共聚物。

7.权利要求6的印版前体,其中所述包含极性基团和疏水性基 团的双官能化合物为表面活性剂,且相对于涂层重量,它的存在量为 10-100mg/m2

8.权利要求7的印版前体,其中所述双官能嵌段共聚物包含聚 (环氧烷)或低聚(环氧烷)嵌段和疏水性嵌段如长链烃基、聚硅氧烷或 低聚硅氧烷和/或全氟烃基。

9.权利要求8的印版前体,其中相对于涂层重量,所述双官能 嵌段共聚物的量为0.5-25mg/m2

10.一种制作阳图制版热敏性平版印刷印版的方法,所述方法包 括以下步骤:

(i)提供前述权利要求中任一项的印版前体,

(ii)成像暴露所述前体于热和/或IR光,和

(iii)用含水碱性显影液使所述暴露的前体显影,由此移除暴露区 域的涂层,而基本不影响非暴露区域的涂层。

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