[实用新型]一种比较片机构

说明书

技术领域

本实用新型属于光学镀膜设备领域，特别涉及其中的比较片机构。

背景技术

在为光学元器件如镜片镀膜时，为了监控薄膜厚度，在接近被镀工件(需要镀膜的基片)设置有比较片。比较片位置尽可能与被镀基片接近，比较片与被镀工件一同被蒸镀。在蒸镀过程中，通过光学监控系统可以直接测量由于比较片的厚度变化引起的膜系的透(反)射率变化值，由于比较片与被镀基片的镀制过程十分近似，那么对比较片的监控结果就可以视为对被镀基片的监控结果，从而达到精确控制基片镀制过程的目的。另外，利用石英晶体的厚度变化会引起石英晶体的振频发生变化这一原理，在光学镀膜设备中还采用石英晶体探头的监测方式对被镀基片的膜层厚度进行监控。由于比较片和晶体探头两种监测方式的原理不同，各有所长，结合两种监控系统，可以实现以采用比较片的光控方式为主，采用晶体探头的晶控方式为辅的薄膜镀制监控系统，精确监控薄膜厚度。

现有比较片和晶体探头的工作方式如下：采用若干个独立的比较片，镀一层膜时采用一个比较片进行监测，进行下一层镀膜时更换新的比较片；晶体探头独立于比较片机构进行监测。

现有技术存在的不足在于：多个独立的比较片之间不可避免地存在几何精度误差，而采用比较片进行监测的前提就是比较片本身的光学参数是已知和一致的，不同比较片存在的误差必然导致监测结果有误差，进而影响监控的质量；另外每个比较片都要配备换位机构及定位装置，这必然导致整个比较片机构庞大，而在光学镀膜的真空室的空间是一定的，比较片机构占用空间大是以减少被镀工件的面积为代价的，这就使光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间减少，影响生产效率；晶体探头独立于比较片机构设置，使得晶体探头的监测位置和比较片的监测位置相距过远，由于真空室内较远的不同位置的蒸镀条件可能有比较大的不同，这就有可能导致两者的监测结果相差过大，不利于薄膜厚度的精确控制。

实用新型内容

本实用新型的目的是解决现有比较片监测技术存在的监测结果误差大、比较片机构庞大导致光学镀膜设备用于装载被镀基片的有效空间少以及晶体探头和比较片监测结果相差过大的问题，本实用新型提供了一种新型的比较片机构。

本实用新型的主要思想是在一个大比较片上进行分区，每个分区作为镀一层膜时的比较片，这样就解决了不同比较片间存在几何精度误差的问题，同时也减少了比较片机构的空间；将晶体探头设置在比较片机构中，使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测结果相差过大的问题。

本实用新型的技术方案如下：

比较片机构，包括定位法兰盘和位于定位法兰盘上部的一个比较片，在比较片和定位法兰盘之间还设置有对比较片分区的分区结构，所述分区结构包括若干通透区，所述比较片工作面侧朝向分区结构设置，并且比较片工作面朝向真空室；所述定位法兰盘上设置有定位法兰盘通孔，所述定位法兰盘通孔与所述分区之一重叠设置。

上述分区结构包括一盘状体及该盘状体底部设置的若干个起分区作用的互不连通的通孔，所述盘状体为圆盘状，其外圆周设置有齿轮结构。上述若干个互不连通的通孔为圆孔，且所述圆孔的圆心均在盘状体底部一个同心圆的圆周上。互不连通的通孔的数量是9。

盘状体朝向真空室一侧的底部圆心设置有定位轴，所述定位轴设置于定位法兰盘上。

包括一传动齿轮，所述传动齿轮与盘状体外圆周的齿轮啮合，传动齿轮设置于传动轴上。

上述传动轴一端连接于动力源，另一端连接于定位法兰盘上。

还包括晶体探头，所述晶体探头设置于定位法兰盘上。

技术效果：

本实用新型通过设置一个比较片和对比较片分区的分区结构，即对一个比较片进行分区，可使每个大比较片上被分的分区作为镀一层膜时的比较片，由于一个比较片的几何精度等参数是一致的，这样就解决了不同比较片间存在几何精度误差的问题，提升了监测效果。同时，采用一个大比较片，去除了多余的比较片都要配备的换位机构及定位装置，简化了整个比较片机构的结构，减少了比较片机构占用的空间，增加了光学镀膜设备可用于装载被镀基片的有效空间。由于比较片机构体积缩小，这就有可能将晶体探头设置在比较片机构中，从而使晶体探头的监测位置和比较片的监测位置十分接近，解决了两者的监测结果相差过大的问题，达到提升监测效果的目的。

设置齿轮机构来驱动比较片分区换位，使比较片分区能够准确定位。