[实用新型]一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具

说明书

技术领域

本实用新型涉及检测样品制备治具，尤其涉及一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具。

背景技术

在检验进料晶圆或通过检测晶圆来检测线上机台的运行状况时，对晶圆正面污染物(特别是金属杂质)的检测是主要的检测项目。目前晶圆表面污染物的检测方法通常包括全反射射线X荧光(TXRF)和水汽相位分解等离子体质谱(VPD-ICP-MS)分析法，其中VPD-ICP-MS分析法以其侦测极限极低(可达1×10¹⁸个每平方厘米)的优点而成为常用的污染物检测方法。该方法是利用制样溶液(通常为氢氟酸、硝酸和双氧水的混合液)将晶圆正面的污染物溶解后，再将溶解所得溶液导入ICP-MS设备中做定性或定量分析。

现市面上已有全自动的VPD-ICP-MS设备，其只需将晶圆设置在其中，即可完成晶圆表面污染物的分析检测，其使用极其方便，但因价格太高，推广使用还需时日。所以仍有很多半导体制造企业通过人工方式来进行晶圆正面污染物的检测样品制备，然后再将样品放置在ICP-MS设备中进行分析，该人工方式制备检测样品的详细过程为：先将晶圆放置在晶圆盒中，然后用吸管向晶圆正面滴制样溶液，之后再使用吸管将溶解有污染物的溶液转移到收集器皿中。上述检测样品的制备方式存在着过程繁琐、操作不便、精度不高和操作危险等诸多缺点。

因此，如何提供一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具以便于制样者高效安全且精准的进行检测样品的制备，已成为业界亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具，通过该治具可提高制样的便利性、精准性和安全性。

本实用新型的目的是这样实现的：一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具，该晶圆边缘具有一预设角度范围的导角，该治具包括一放置晶圆的本体、一罩设在本体顶部的罩体和一设置在罩体顶部用于向晶圆正面喷洒制样溶液或水的进样喷头，该本体为第一和第二平面截一倒立椎面所得，该锥面的锥角等于晶圆的导角，该第一和第二平面与锥线所成的角分别为一直角和一预设锐角，该第一和第二平面在倒立锥面上形成了第一截圆和第二截圆，该第二截圆为直接与操作台接触的椭圆且其低于第一截圆，该晶圆的直径大于第二截圆的短轴且小于第一截圆的直径，该本体在放置晶圆且距操作台最近的位置上设置有一供制样溶液流出本体的开口。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该制备治具还包括用于收集从开口流出本体的溶液的收集器皿，该收集器皿放置在本体外溶液恰从开口流出的位置。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该预设角度范围为20至22度。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该预设锐角为75度。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该污染物为金属污染物。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该制样溶液为氢氟酸、硝酸和双氧水的混合溶液。

在上述的晶圆正面污染物的检测样品制备治具中，该晶圆放置在本体中时，该晶圆正面朝上。

与现有技术中使用吸管和晶圆盒来制备检测样品所存在的不方便、不安全和不准确的问题相比，本实用新型的晶圆正面污染物的检测样品制备治具依照晶圆的形状设置了可方便将晶圆放置在其中的锥面本体，当该晶圆正面朝上设置在该锥面本体中且该锥面本体放置在操作台上时，该晶圆和操作台间具有一倾角，之后再将罩体罩在本体上，然后使用进样喷头向晶圆正面喷洒制样溶液，该制样溶液在与晶圆正面的污染物反应后，且在重力的作用下，从本体上的开口中流出本体并注入设置在本体外的收集器皿中，之后再通过进样喷头喷涂水以将所用制样溶液全部收集至收集器皿中，如此可大大方便制样者，另外可提高样品制备的可靠性和安全性。

附图说明

本实用新型的晶圆正面污染物的检测样品制备治具由以下的实施例及附图给出。

图1为本实用新型的晶圆正面污染物的检测样品制备治具的组成结构示意图；

图2为形成图1中的本体的立体示意图；

图3为本实用新型中的本体的正视图。

具体实施方式

以下将对本实用新型的晶圆正面污染物的检测样品制备治具作进一步的详细描述。

本实用新型的晶圆正面污染物的检测样品制备治具用于在通过等离子体质谱(ICP-MS)仪检测晶圆正面污染物前供制样者在其上制备检测样品，其中，所述晶圆边缘具有一预设角度范围的导角，所述预设角度范围为20至22度。