[实用新型]上照式X荧光能量色散光谱仪

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种微量元素检测仪器，尤其是一种创新式地采用上照式光路系统的X荧光能量色散光谱仪。

背景技术

目前进行全元素分析其他方法有很多，除了X荧光分析法之外，还有电子能谱分析和无机质谱分析两大类：这两大类中的其他方法主要如下：电子能谱分析：俄歇电子能谱法(AES)，紫外光电子能谱法(UPS)无机质谱分析：感应耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)，微波感应等离子体质谱仪(MIP-MS)，火花源双聚焦质谱仪(SS-MS)，热电离质谱仪(TI-MS)，辉光放电质谱仪(GD-MS)，激光微探针质谱仪(LM-MS)，二次离子质谱仪(SIMS)。

针对镀层分析，目前行业主要分为两大类：破坏法镀层检测，非破坏法镀层检测方法。

破坏法镀层检测方法必须将检测部位做断面切片，经过金相研磨、抛光、化学腐蚀得到试样，通过CCD摄像到电脑中，通过计算机测量软件进行电镀层断面的观察和测量。这种检测方式的缺点为：要破坏检测样品，所以检测速度慢，只适合于抽检。

非破坏性镀层检测方法除了本文将要介绍的X荧光方法外，还包括电磁法、超声波等方式。但是这种方法的检测精度比较低，误判率比较高。

本款仪器是采用X荧光分析方法，在分析测试方面，X荧光分析方法相较其他仪器来说，有以下的优势：

1.快速：最多200s，可以精确得出测量结果。无需前处理或者前处理过程非常简单。

2.直观：测试过程中有实时谱图显示，可以直观进行含量的判断操作。

3.无损：测试前后，样品不发生任何物理和化学的变化。

4.准确：测量结果准确可靠。

5.分析浓度范围广：分析浓度范围较宽，从常量到微量都可分析。重元素的检测限可达ppm量级。

6.既可进行全元素分析，又可进行镀层分析，适合在软件中集成。

以上是一般X荧光光谱仪都具有的优良性能，相较其它X荧光光谱仪来说，该仪器具有自己独特的优势。

本发明人于去年申请了名称为一种自动定位X荧光能量色散光谱仪的专利，专利申请号为200620014536.x。如图1所示，该专利为一种真空检测X荧光能量色散光谱仪，包括机身和与之相连的电脑，其中，所述机身内安装有光源系统、探测器系统以及信号处理系统，其中，所述光源系统包括高压单元和X光管，光源系统发射出X射线，X射线作用在样品上后，样品中的各个原子会被激发出特征X荧光，这些X荧光被探测器系统所接收，分析转化为电信号，电信号经过MCA模块系统的处理，再传输到电脑中，在机身和与之相连的电脑的用户界面上显示出来，其特征在于：所述真空检测X荧光能量色散光谱仪的机身包括一金属框架和一外壳，其中，所述光源放射系统、探测器系统、以及信号处理系统均固定于所述金属框架上，所述外壳罩在所述金属框架外起保护作用，所述金属框架的上部还设有一样品台，所述样品放置于该样品台上，所述样品台、光源放射系统、探测器系统、以及信号处理系统构成一测量单元。

但本发明人经过实践，发现上述专利存在以下几个方面的缺点需要改进：

一、该X荧光光谱仪，采用了下照式的传统光路设计模式，也就是说，放置样品的样品台位于光源放射系统的上方，采用这种光路，在测试过程中可能对光路造成污染。

二、该X荧光光谱仪，样品台不能自动定位。

三、该X荧光光谱仪的样品腔不是全封闭的，有可能造成射线污染。

发明内容

为了克服上述X荧光光谱仪的众多缺点，本实用新型的目的是提供一种上照式X荧光能量色散光谱仪，可以避免在测试过程中可能对光路造成的污染，从而更进一步地排除了可能对测试结果产生影响的因素，保证了测试效果。

本实用新型所采用的技术方案是：一种上照式X荧光能量色散光谱仪，包括机身和与之相连的电脑，其特征在于：所述机身包括外壳(91)、密封样品腔(71)、机架(9)、探测器(10)、光管(11)和样品台(81)，其特征在于：所述样品台(81)固定于所述探测器(10)和光管(11)的下方。因此样品位于照射光路的下方，采用这种光路设计，可以避免在测试过程中可能对光路造成的污染，从而更进一步地排除了可能对测试结果产生影响的因素，保证了测试效果。

所述外壳(91)包括底座(1)、右挂板(2)、左挂板(3)、后面板(4)、前门(5)和上盖板(6)。