[发明专利]多域垂直配向式显示面板、彩色滤光基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种显示面板、彩色滤光基板及其制造方法，且特别是有关于一种多域垂直配向式显示面板的彩色滤光基板及其制造方法。

背景技术

现今社会多媒体技术相当发达，多半受惠于半导体元件与显示装置的进步。就显示器而言，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器已逐渐成为市场的主流。为了让使用者有更好的显示品质，目前液晶显示器皆朝向高对比(high contrast ratio)、无灰阶反转(no gray scaleinversion)、色偏小(little color shift)、亮度高(high luminance)、高色饱和度、快速反应与广视角等特性来发展。以广视角技术而言，常见的液晶显示器例如有共平面切换式(in-plane switching，IPS)液晶显示器、扭转向列型液晶显示器、边际场切换式(fringe field switching)液晶显示器与多域垂直配向式(multi-domainvertically alignment，MVA)液晶显示器等。

图1是现有的多域垂直配向式液晶显示器的剖面示意图。请参照图1，现有的多域垂直配向式液晶显示器100包括一主动元件阵列基板110、一彩色滤光基板120以及位于主动元件阵列基板110与彩色滤光基板120之间的液晶层130。如图1所示，主动元件阵列基板110主要是由一基板111、一主动元件112与一像素电极114所构成。具体而言，主动元件112位于基板111上，且与像素电极114电性连接。

另一方面，彩色滤光基板120主要是由一基材121、多个黑矩阵122、多个彩色膜层124、一共用电极(common eletrode)126与多个凸起物(protrusion)P所构成。其中，黑矩阵122与彩色膜层124皆配置于基材121上，且黑矩阵122位于彩色膜层124之间。此外，共用电极126覆盖于黑矩阵122与彩色膜层124上。特别的是，位于共用电极126上的凸起物(protrusion)P与像素电极114上的狭缝(slit)S，可以影响像素电极114与共用电极126之间的电场分布，进而可使液晶层130中液晶分子呈多方向排列，以得到数个不同的配向领域(domain)。

这里要特别说明的是，在液晶层130尚未受到电场驱动前，彩色滤光基板120上的凸起物P会影响液晶分子的初始倾倒状态。一般而言，多域垂直配向式液晶显示器100多为常态黑画面(normally black)的设定。这意味着，液晶层130中的液晶分子，很可能因凸起物P而影响液晶分子的初始倾倒状态，进而导致显示画面有不正常的漏光现象。

另一方面，彩色滤光基板120主要是借由多道光掩模制程而形成。以彩色滤光基板120上的黑矩阵122、彩色膜层R、彩色膜层G、彩色膜层B与凸起物P的制作来说，就需分别借由五道光掩模制程来进行。由于进行光掩模制程的次数会直接影响到整个多域垂直配向式液晶显示器100的制造成本与制程时间，因此各家制造厂商无不极力缩减光掩模制程的次数。现有彩色滤光基板120的制程，实有改进的必要。

发明内容

本发明提供一种彩色滤光基板的制造方法，其可有效缩减制作流程。

本发明提供一种彩色滤光基板，其具有容易制造的优点，进而可有效降低制造成本。

本发明提供一种多域垂直配向式显示面板的制造方法，其可有效缩减制作流程。

本发明提出一种多域垂直配向式显示面板，其具有较佳的显示品质。

本发明的彩色滤光基板的制造方法包括下列步骤：首先提供一基材。接着，于基材上形成一图案化彩色滤光膜层，形成该图案化彩色滤光膜层包括：于该基材上形成一第一图案化滤光膜层；于该基材上形成一第二图案化滤光膜层；以及于该基材上形成一第三图案化滤光膜层，其中该第一图案化滤光膜层、该第二图案化滤光膜层以及该第三图案化滤光膜层内各自具有多个凹槽。然后，于图案化彩色滤光膜层与基材上，形成一共用电极层。其中，共用电极层与凹槽的表面共形。之后，于共用电极层上且对应于凹槽内，形成多个遮光物。这些遮光物将这些凹槽填满以使共用电极层的表面与这些遮光物的表面实质上在同一延伸面上。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，上述凹槽进一步位于第一图案化滤光膜层、第二图案化滤光膜层与第三图案化滤光膜层相邻两者之间。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，上述的第一图案化滤光膜层的材料包括红色树脂。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，上述的第二图案化滤光膜层的材料包括绿色树脂。