[发明专利]有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法

权利要求书

1.、一种有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于包括采用硅源得到单分散SiO₂微球并组装形成有序模板、羟基磷灰石前驱液在有序模板中的渗透以及有序模板去除，具体包步骤如下：

(1)有序模板的制备

以硅源、水为原料，氨水为催化剂，将硅源、催化剂和水按下述摩尔比加入到有机溶剂中混合，在20～40℃的恒温水浴中搅拌0.5～4小时，形成单分散球形SiO₂微球，离心，洗涤，干燥，重新分散在溶剂中，形成1～10wt％悬浊液，静置、自然沉降、室温干燥，即得有序SiO₂胶晶模板，其中：硅源∶催化剂∶水＝1∶(1.5～5)∶(10～40)；

(2)羟基磷灰石前驱液在有序模板中的渗透

将钙源、磷源、水和乙醇在70-90℃的恒温水浴中搅拌反应24～48h，调节溶胶的pH值为7-9，得到羟基磷灰石溶胶，即为最终材料的前驱体溶液；将该前驱体溶液滴入到步骤(1)所得的有序胶晶模板中，干燥固化，然后在500-900℃温度下煅烧2～4小时；

(3)模板的去除

将步骤(2)中得到的烧结体在浸泡液中浸泡后，除去SiO₂模板，即得有序多孔羟基磷灰石材料。

2.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于步骤(1)中所述硅源为正硅酸乙酯。

3.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于步骤(2)中所述磷源为磷酸三甲酯或磷酸三乙酯。

4.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于步骤(3)中所述钙源为四水硝酸钙。

5.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于所述氨水的浓度为25～28wt％。

6.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于步骤(1)所述有机溶剂为甲醇、乙醇、丙醇或丁醇。

7.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于步骤(3)中所述浸泡液采用摩尔浓度为0.1～10mol/L的氢氧化钠溶液。

8.根据权利要求1所述的有序多孔羟基磷灰石材料的制备方法，其特征在于所得到的有序多孔羟基磷灰石材料，孔径为100～500nm，孔径排列有序，孔与孔之间相互连通，在700℃以下仍有很高的热稳定性。

9.一种如权利要求1所述的方法制备得到的有序多孔羟基磷灰石材料在生物标记、药物载体、固定化酶领域的应用。