[发明专利]高速可变衰减器

权利要求书

1.一种适用于光刻设备中的可变衰减器，所述可变衰减器被构造用于响应输入控制信号对其输入辐射束的透射水平进行调节，所述输入控制信号代表可变衰减器对辐射束的所需透射水平，包括：

第一和第二半透反射器，所述第一和第二半透反射器大致相互平行地设置，并使得辐射束连续地通过第一和第二半透反射器；以及

致动器系统，所述致动器系统被构造用于响应输入控制信号来控制第一和第二半透反射器的间隔。

2.根据权利要求1所述的可变衰减器，其中，所述辐射束以倾斜角度入射到第一半透反射器上。

3.根据权利要求1所述的可变衰减器，还包括控制器，所述控制器被构造用于将控制信号提供给致动器系统、以便响应输入控制信号控制致动器系统。

4.根据权利要求3所述的可变衰减器，其中，所述控制器包括存储器，所述存储器被构造用于存储与衰减器的透射水平和控制信号之间的关系相对应的校准数据；以及

所述控制器被构造用于响应输入控制信号并基于校准数据产生致动器系统的控制信号。

5.根据权利要求3所述的可变衰减器，还包括：

位置传感器系统，其被构造用于测量第一和第二半透反射器的相对位置；并且

其中所述控制器被构造用于响应输入控制信号并基于第一和第二半透反射器所测量到的相对位置产生致动器系统的控制信号。

6.根据权利要求5所述的可变衰减器，其中：

所述控制器被构造用于基于输入控制信号确定第一和第二半透反射器的所需相对位置，并基于第一和第二半透反射器的所需相对位置和所测量到的相对位置之间的差别产生致动器系统的控制信号。

7.根据权利要求5所述的可变衰减器，其中：

致动器系统还被构造用于控制第一和第二半透反射器的相对角度位置；以及

所述控制器被构造成将控制信号提供给致动器系统，以基于所测量到的第一和第二半透反射器的相对位置来控制第一和第二半透反射器的相对角度位置。

8.根据权利要求3所述的可变衰减器，还包括：

辐射源，所述辐射源被构造用于产生第二辐射束，所述第二辐射束以与第一辐射束入射到第一半透反射器上的角度不同的角度入射到第一和第二半透反射器中的一个上；以及

检测器系统，其被构造用于在第二辐射束通过第一和第二半透反射器之后检查第二辐射束，

其中所述检测器系统被构造用于测量通过可变衰减器的第二辐射束的强度，以及

其中所述控制器被构造用于响应输入控制信号并基于所测量到的第二辐射束的强度来产生致动器系统的控制信号。

9.根据权利要求8所述的可变衰减器，其中：

所述检测器系统还被构造用于测量横跨第二辐射束的横截面的辐射强度的均匀性；

所述致动器系统还被构造用于控制第一和第二半透反射器的相对角度位置；以及

所述控制器被构造成将控制信号提供给致动器系统，以基于所测量到的横跨第二辐射束的横截面的辐射强度的均匀性，控制第一和第二半透反射器的相对角度位置。

10.一种适用于光刻设备的可变衰减器，所述可变衰减器被构造用于响应输入控制信号对其对于输入辐射束的透射水平进行调节，所述输入控制信号代表可变衰减器对辐射束的所需透射水平，所述可变衰减器包括：

辐射束分束器，所述辐射束分束器将辐射束分成第一和第二辐射束路径；

辐射束组合器，所述辐射束组合器将来自第一和第二辐射束路径的辐射重新组合，使得经过重新组合的辐射发生干涉并产生输出辐射束；以及

辐射束路径长度控制器，辐射束路径长度控制器被构造用于响应输入控制信号控制第一辐射束路径的路径长度，以便控制来自第一和第二辐射束路径的辐射的干涉。

11.根据权利要求10所述的可变衰减器，其中，所述辐射束路径长度控制器包括反射器和被构造用于控制反射器的位置的致动器系统，使得辐射束路径长度控制器能够更改第一辐射束路径的路径长度。

12.根据权利要求11所述的可变衰减器，还包括控制器，所述控制器被构造用于将控制信号提供给致动器系统，以便响应输入控制信号控制致动器系统。