[发明专利]使用等离子体处理基材的设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，其包括：

壳体，其中设置有用于容纳基材的空间；

气体供应件，用于将气体供应进所述壳体中；

等离子体源，用于从供应进所述壳体中的气体产生等离子体；以及

磁场形成件，用于在所述壳体内部产生等离子体的区域中提供磁场，

其中所述磁场形成件包括：

第一磁体单元，所述第一磁体单元包括配置成包围所述壳体并彼此 隔开的多个第一磁体；以及

与所述第一磁体单元分层隔开的第二磁体单元，所述第二磁体单元 包括配置成包围所述壳体并彼此隔开的多个第二磁体，

其中所述第一磁体单元和所述第二磁体单元相对于所述第一磁体单 元与所述第二磁体单元之间的水平面以从它们彼此垂直对齐的位置旋转 预定角度的状态设置。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其中每个所述第一磁体 和所述第二磁体是电磁体。

3.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其中所述第一磁体单元 配置在所述第二磁体单元上方，以及

其中每个所述第二磁体配置在相邻第一磁体之间的部分的下方。

4.如权利要求3所述的等离子体处理设备，其中各个所述第一磁体 和各个所述第二磁体具有相同形状，所述第一磁体的数量等于所述第二 磁体的数量，以及

其中每个所述第二磁体配置在相邻第一磁体之间的中间位置的垂直 下方。

5.如权利要求4所述的等离子体处理设备，其中每个所述第一磁体 和所述第二磁体配置成呈中空矩形状。

6.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其中每个所述第一磁体 和所述第二磁体具有面对所述壳体的平面。

7.如权利要求4所述的等离子体处理设备，其中所述第一磁体的数 量是偶数，并且所述第二磁体的数量是偶数。

8.如权利要求7所述的等离子体处理设备，其中所述第一磁体的数 量至少为四个，并且所述第二磁体的数量至少为四个。

9.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其中所述第一磁体单元 配置成使得当从上侧观察时，所述第一磁体单元呈正多边形形状，并且 所述第二磁体单元配置成使得当从上侧观察时，所述第二磁体单元呈正 多边形形状，以及

其中所述第二磁体单元配置成相对于所述第一磁体单元以除了所述 正多边形内角倍数之外的角度绕所述第二磁体单元的轴线旋转。

10.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其中所述磁场形成件 还包括第三磁体单元，所述第三磁体单元包括彼此隔开的多个第三磁体， 所述第三磁体单元配置在所述壳体周围并与所述第一磁体单元和所述第 二磁体单元分层隔开。

11.如权利要求2所述的等离子体处理设备，还包括：

旋转件，用于使所述磁场形成件绕其轴线旋转。

12.如权利要求2所述的等离子体处理设备，还包括：

第一旋转单元，用于旋转所述第一磁体单元；以及

第二旋转单元，用于独立于所述第一磁体单元旋转所述第二磁体单 元。

13.一种等离子体处理设备，其包括：

在其中进行等离子体处理的壳体；

置于所述壳体中的等离子体源，用于从供应进所述壳体中的气体产 生等离子体；以及

配置成包围所述壳体的圆周并分层隔开的至少两个磁体单元，

其中每个所述磁体单元包括配置成呈包围所述壳体侧部的形状并彼 此隔开的多个电磁体，以及

其中在相邻层中设置的所述电磁体相对于相邻磁体单元之间的面以 从所述电磁体彼此垂直对齐的位置旋转预定角度的状态布置。

14.如权利要求13所述的等离子体处理设备，其中在下面的磁体单 元中设置的电磁体配置在上面的磁体单元的相邻电磁体之间。

15.如权利要求13所述的等离子体处理设备，其中当从上侧观察时， 每个所述磁体单元配置成呈多边形形状。