[发明专利]绘制装置

说明书

技术领域

本发明是有关于朝成为原版的光罩(photo-mask，reticle)、或直接地朝印刷基板或硅晶圆等的被绘制体形成电路样式(pattern)等的样式的绘制装置。

背景技术

在基板等的制造工程中，对于涂布光阻(photo-resist)等的感光材料的被绘制体，样式形成用的绘制处理被实行，经过显像处理、蚀刻或镀层处理、光阻(resist)剥离等工程，在被绘制体，样式被形成。在基板，成为记号(mark)、孔等的基准的指针朝所定场所规则地被形成，基板被搭载到绘制桌(table)(绘制台[stage])时，藉由使绘制桌和照相机移动，基准记号的位置被检测出。又，基于被检测出的位置，将绘制样式朝所定区域形成。

在量测基准记号时，由于必须知道照相机的正确位置，例如，在绘制桌，基准刻度尺(scale)被安装，使绘制桌移动至所定位置，将基准刻度尺的刻度作为基准，量测基准记号的位置坐标(专利文献1)。又，基于被量测的基准记号的位置坐标，算出基板的变形量、对准(alignment)误差，补正绘制位置。

[专利文献1]日本特开2004-348045号公报

由于基准刻度尺被安装在绘制桌，必须使量测基准刻度尺的记号、刻度的绘制桌移动至照相机的所定位置(原点位置)为止。因此，起因于绘制桌的驱动机构的，沿着移动方向的位置决定有误差时，在被量测的位置坐标，桌误差会产生。又，每次使用基准刻度尺，必须使绘制桌回到所定的原点位置为止，在基板的基准记号位置检测方面，需花费时间。

发明内容

本发明的绘制装置可正确地且以短时间地量测设置于基板等的被绘制体的量测用的记号、孔的位置，包括：位置量测用的基准记号被设置的被绘制体被搭载、对于基台相对地沿着第一扫描方向可移动的绘制桌、以及对于基台沿着与第一扫描方向正交的第二扫描方向可移动地被安装、量测基准记号位置的照相机。在此的基准记号包含印、孔等，例如，被形成在基板等的被绘制体的四角。使绘制桌、照相机，例如，分别沿着副扫描方向、主扫描方向(或其相反)被移动般构成即可。

本发明的绘制装置包括被安装在基台、沿着第二扫描方向延伸的基准刻度尺，又，包括：照射量测基准记号位置用的第一照明光的第一光源、照射照明基准刻度尺用的具有和第一照明光不同的波长领域的第二照明光的第二光源、以及导引第一照明光至被绘制体且将其反射光导引至照明机、并将第二照明光导引至基准刻度尺且将其反射光导引至照相机的量测用光学系统。

量测用光学系统选择第一照明光、第二照明光，分别导引至基准记号、被绘制体。基于包含于设计资料的绘制资料的位置坐标，使照相机沿着第二扫描方向移动的话，在使照相机停止在此场所的状态下，藉由从第二光源被放射的第二照明光，基准刻度尺成为可量测。又，藉由第一照明光，可直接量测基准记号的位置。基准刻度尺的形状、构成为任意，例如，使用微细的孔以等间隔规则地排列的刻度尺即可。记号、刻度的间距依据绘制装置的构成即可，但须考虑移动照相机的驱动机构的驱动误差，以驱动误差不超过刻度的间距(pitch)的方式决定间距即可。又，绘制装置包括：量测基准记号位置的量测装置、以及基于被量测的基准记号的位置、补正绘制位置的补正装置。

为了选择地区分第一照明光、第二照明光，在量测用光学系统，最好设置使第一照明光以及其反射光透过、使第二照明光以及其反射光反射的分光光学系统。例如，在量测用光学系统，设置有使第一和第二照明光朝被绘制体反射、使其反射光直接透过的第一光学系统、以及将第一照明光以及其反射光透过、使第二照明光朝基准刻度尺反射且使其反射光朝照相机反射的第二光学系统。或者，设置有使第一照明光朝被绘制体反射、使其反射光直接透过的第三光学系统、以及将第一照明光以及其反射光透过、使经由基准刻度尺入射的第二照明光朝照相机反射的第四光学系统。作为第一、第三光学系统，例如，棱镜被设置。作为分光光学系统、第二、第四光学系统，例如，分色镜(dichroic mirror)被设置。

作为分光光学系统的构成，例如，可与照相机一体地安装，量测用光学系统以及照相机对于基准刻度尺相对地移动。或者，沿着基准刻度尺延伸般，安装在基准刻度尺也可，照相机对于量测用光学系统以及基准刻度尺相对地移动。