[发明专利]偏振器和包括该偏振器的平板显示装置有效

专利信息
申请号: 200710140399.3 申请日: 2007-08-10
公开(公告)号: CN101256250A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 吴宗锡;李钟赫;宋英宇;黄圭焕;李浚九;河载兴;朴哲佑 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;H01L27/32;H05B33/12
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;冯敏
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏振 包括 平板 显示装置
【权利要求书】:

1. 一种偏振器,具有用于面向外部光的外部光入射侧和沿着偏振器的厚度方向与外部光入射侧隔开且与外部光入射侧相对的侧,偏振器包括:

基体;

多个栅格,在基体上,多个栅格包括第一组份和第二组份,并具有沿着偏振器的厚度方向的厚度,

其中,第一组份包括介电材料,第二组份包括金属,

其中,第一组份和第二组份具有沿着厚度方向的浓度梯度,其中,栅格中的第一组份的浓度沿着第一方向增大,栅格中的第二组份的浓度沿着第二方向增大,其中,第一方向平行于厚度方向朝向外部光入射侧,第二方向平行于厚度方向远离外部光入射侧。

2. 如权利要求1所述的偏振器,其中,第一组份包括从由SiOx、SiNx、MgF2、CaF2、Al2O3、SnO2、氧化铟锡、氧化铟锌、ZnO和In2O3组成的组中选择的至少一种,其中,x≥1。

3. 如权利要求1所述的偏振器,其中,第二组份包括从由Fe、Co、V、Ti、Al、Ag、Si、Cr、Mo、Ge、Y、Zn、Zr、W、Ta、Cu和Pt组成的组中选择的至少一种。

4. 如权利要求1所述的偏振器,其中,栅格具有条形形状且彼此分开。

5. 一种具有图像显示侧的有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括:

基底;

有机发光器件,在基底上,用于在图像显示侧显示图像;

密封构件,在有机发光器件上;

1/4波长延迟层,在与基底、有机发光器件、密封构件中的至少一个对应的表面上;

线性偏振层,在与基底、有机发光器件、密封构件中的至少一个对应的另一表面上或者在1/4波长延迟层的表面上,线性偏振层比1/4波长延迟层更靠近图像显示侧,

其中,线性偏振层包括多个栅格,多个栅格包括第一组份和第二组份,第一组份包括介电材料,第二组份包括金属,

其中,第一组份和第二组份具有沿着栅格的厚度方向的浓度梯度,其中,栅格中的第一组份的浓度沿着第一方向增大,栅格中的第二组份的浓度沿着第二方向增大,其中,第一方向平行于厚度方向朝向图像显示侧,第二方向平行于厚度方向远离图像显示侧。

6. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向基底显示图像,

其中,线性偏振层在基底上,1/4波长延迟层在线性偏振层上,有机发光器件在1/4波长延迟层上。

7. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向基底显示图像,

其中,1/4波长延迟层在基底的一侧上,有机发光器件在1/4波长延迟层上,线性偏振层在基底的与1/4波长延迟层相对的一侧上。

8. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向基底显示图像,

其中,1/4波长延迟层和线性偏振层顺序地在基底的与有机发光器件相对的一侧上。

9. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向密封构件显示图像,

其中,1/4波长延迟层在有机发光器件上,线性偏振层在1/4波长延迟层上。

10. 如权利要求9所述的有机发光显示装置,还包括位于有机发光器件和1/4波长延迟层之间的保护层。

11. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向密封构件显示图像,

其中,1/4波长延迟层和线性偏振层顺序地在密封构件的与有机发光器件相对的一侧上。

12. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向密封构件显示图像,

其中,1/4波长延迟层在密封构件的面向有机发光器件的一侧上,线性偏振层在密封构件的与1/4波长延迟层相对的一侧上。

13. 如权利要求5所述的有机发光显示装置,其中,朝向密封构件显示图像,

其中,线性偏振层在密封构件的面向有机发光器件的一侧上,1/4波长延迟层在线性偏振层的面向有机发光器件的一侧上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710140399.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top