[发明专利]磁记录介质及其制造方法有效
申请号: | 200710136235.3 | 申请日: | 2007-07-11 |
公开(公告)号: | CN101159139A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 李斗铉;尹成龙;孙镇昇;李丙圭 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66;G11B5/84 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;刘奕晴 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
1.一种磁记录介质,包括:
基底;
软磁下层,形成在基底上;
纹理层,形成在软磁下层上,并包括规则的图案;
记录层,包括磁性颗粒和将磁性颗粒隔离的非磁边界区域,磁性颗粒和非磁边界区域与纹理层的规则的图案对应地形成。
2.如权利要求1所述的磁记录介质,其中,软磁下层包括规则的图案,所述规则的图案由突出部分和在所述突出部分之间形成的沟槽形成;
纹理层的规则的图案包括突出部分和沟槽,纹理层的突出部分和沟槽与软磁下层的各个沟槽和突出部分对应。
3.如权利要求1所述的磁记录介质,还包括设置在软磁下层和纹理层之间的中间层,所述中间层包括由突出部分和在所述突出部分之间形成的沟槽形成的规则的图案,
其中,纹理层的规则的图案包括突出部分和沟槽,纹理层的突出部分和沟槽与中间层的各个沟槽和突出部分对应。
4.如权利要求3所述的磁记录介质,其中,中间层由非磁性金属、氧化物、氮化物或者聚合物混合物形成。
5.如权利要求2至4中任一项所述的磁记录介质,其中,记录层的磁性颗粒形成在纹理层的突出部分上,记录层的非磁边界区域围绕磁性颗粒形成在纹理层的沟槽上,磁性颗粒和非磁边界区域通过晶体生长形成。
6.如权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质,其中,纹理层包括Ru、MgO和Pt中的至少一种。
7.如权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质,其中,记录层的磁性颗粒具有垂直磁各向异性。
8.如权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质,其中,记录层的磁性颗粒由钴基磁合金或者铁基磁合金形成。
9.如权利要求8所述的磁记录介质,其中,记录层的磁性颗粒由从由CoPt、FePt、CoPd、FePd和CoCrPt组成的组中选择的至少一种材料形成。
10.如权利要求1至4中任一项所述的磁记录介质,其中,记录层的非磁边界区域由非磁氧化物或者非磁氮化物形成。
11.如权利要求10所述的磁记录介质,其中,记录层的非磁边界区域由从由SiO2、TiO2、ZrO2和SiN组成的组中选择的至少一种材料形成。
12.一种制造磁记录介质的方法,所述磁记录介质包括按顺序层叠在基底上的软磁下层、纹理层和记录层,所述方法包括以下步骤:
在纹理层上形成规则的图案,其中,规则的图案由隔离的突出部分和围绕隔离的突出部分的沟槽形成;
形成记录层,以具有规则的粒状结构,所述粒状结构由磁性颗粒和非磁区域形成,磁性颗粒与纹理层的各个隔离的突出部分对应地形成,非磁区域与所述沟槽对应地形成。
13.如权利要求12所述的方法,其中,在纹理层上形成规则的图案的步骤包括:
在软磁下层上形成中间层;
在中间层上形成图案;
在中间层上生长纹理层,从而在纹理层上形成与中间层的图案对应的图案。
14.如权利要求13所述的方法,其中,在中间层上形成图案的步骤包括:
将压印树脂施加到中间层上;
将图案转印到压印树脂上,以在中间层上形成图案化的压印树脂;
使用图案化的压印树脂作为掩膜对中间层进行蚀刻;
去除压印树脂。
15.如权利要求13所述的方法,其中,在中间层上形成图案的步骤包括:
将压印树脂施加到软磁下层上;
将图案转印到压印树脂上,以在软磁下层上形成图案化的压印树脂;
在图案化的压印树脂上沉积中间层;
利用提离方法在中间层上形成图案。
16.如权利要求14或者15所述的方法,其中,中间层由非磁性金属、氧化物、氮化物或者聚合物混合物中的一种形成。
17.如权利要求13所述的方法,其中,在中间层上形成图案的步骤包括:
将压印树脂施加到软磁下层上;
将图案转印到压印树脂上,以在软磁下层上形成图案化的压印树脂;
通过使图案化的压印树脂硬化而形成中间层。
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