[发明专利]用于设备的流体入口装置有效
申请号: | 200710102912.X | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN101108282A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | C·G·巴克曼;P·谢弗;F·穆格利 | 申请(专利权)人: | 苏舍化学技术有限公司 |
主分类号: | B01D3/00 | 分类号: | B01D3/00;B01D3/26;B01D3/32;B01D53/18;B01J19/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 原绍辉;刘华联 |
地址: | 瑞士温*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 设备 流体 入口 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种如权利要求1前序部分所述的用于设备的流体入口装置,尤其是涉及一种用于柱状设备的流体入口装置。本发明还涉及具有流体入口装置的设备以及对于流体入口装置的用途。
背景技术
由DE-A-1519711中可以了解一种用于液体/蒸汽混合物的流体入口装置,也就是一种输入和分配装置,两相的流体可以给入该种设备,尤其是给入一种柱状设备,其中流体所承载的液体(以液滴的形式)可以同时得到沉淀。在这种连接中,所输入的流体由多个弯曲的导流板或导流装置分成多条支流,并且每一支流均受到偏转,使得稠密相通过应用离心力而至少部分得到沉淀。此种已知的流体入口装置在本质上也可以应用于给入的单相流体(液体或气体)。可以使均匀的流体以低速流动至流体床,例如:间隔设置于流体入口装置之上的流体床。其它装置也可以替代流体床设置于该种设备或柱状设备内,例如:一种用于将承载的液滴进行沉淀的装置,该种装置不从流体入口装置内进行截取。该种流体入口装置由相对复杂的金属板结构组成。
可以从EP-A-1018360(=P.6929)中获知另一种且实质上简化的流体入口装置,该流体入口装置用于将流体给入柱状设备,并由相对较小的偏转组件形成。该种流体入口装置需要较少的材料,并且简化了制造工艺。然而,这种流体入口装置最简化的实施例并不适于在两相流体进行分配时,同时进行液体沉淀。两横向支流由偏转组件形成,并在很大程度上呈镜像对称并沿着柱状设备的内壁流动,并且在再汇聚之后形成回流,回流的水平速度分量指向径向,并朝向该流体入口装置。中间支流由偏转组件形成,至少一第三中间支流指向径向,并与汇聚后的支流形成的回流的方向相对。第三支流的强度足以在很大程度上避免回流流经柱状设备的中心。因此,中间和两横向支流可以由偏转组件产生,形成平稳的流动,所具有的流动特性导致在流体床之下形成一致的流速分配。气流从偏转组件排出后自由扩展;不必使用复杂的金属板结构进行偏转。
发明内容
本发明的目标在于提供进一步的流体入口装置,流体入口装置是一个偏转组件,尽可能的简单,用于包含液体的气流,并且能够在进行气体分配的同时,至少所承载的液体的一部分可以得到分离。通过权利要求1所限定的装置可以达到此目标。
一种用于设备的尤其是用于柱状设备的流体入口装置。该装置包括入流接管座和偏转组件,该偏转组件在下游方向与入流接管座邻接,并设置有弯曲的导流板。中间和横向支流由给入的流体流经偏转组件生成,通过在该设备的中心区域的相互作用形成缓慢地流动。偏转组件包括具有多条入口通道的输入区,在入口通道内的断面保持恒定。输入区至少部分位于入流接管座内。入口通道并入扩散状的由弯曲的导流板形成的通道。至少具有两层,并且每一层至少具有一中间通道和两条横向通道。第二层的支流和可选择的设置在更下方的第三层的支流通过弯曲的导流板向下偏转。
模型计算(CFD计算)确认了根据本发明具有形成扩散型流体通道(尽管通道具有相对较大的开度角)的偏转金属板的装置可以在流体床形成一致的流速分配。实验表明气体流中液体的分离相当好,即与上文中所引用的DE-A-1519711中所公开的更为复杂的流体入口装置的分离效果一样好。
从属权利要求2-7涉及根据本发明的用于设备的流体入口装置的有利实施例。根据本发明的该设备和该流体入口装置的用途分别是权利要求8和9的主题。
附图说明
以下参照附图对本发明进行说明。其中显示了:
图1是具有根据本发明产生支流的流体入口装置的柱状设备的断面图;
图2是显示了图1中的流体入口装置的一半,并示意性地显示出了支流;
图3是同样的流体入口装置,但示出了更多的细节;
图4是图1中的柱状设备的具有优选通道配置的入流接管座的断面图;
图5显示了从偏转组件的下方观察到的流体入口装置的偏转组件;以及
图6是与图5中相同的偏转组件,并且包括附加的部件,在该图中去除了一片导流板。
具体实施方式
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