[发明专利]用于设备的流体入口装置有效
申请号: | 200710102912.X | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN101108282A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | C·G·巴克曼;P·谢弗;F·穆格利 | 申请(专利权)人: | 苏舍化学技术有限公司 |
主分类号: | B01D3/00 | 分类号: | B01D3/00;B01D3/26;B01D3/32;B01D53/18;B01J19/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 原绍辉;刘华联 |
地址: | 瑞士温*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 设备 流体 入口 装置 | ||
1.一种用于设备的尤其是柱状设备(2)的流体入口装置,所述的装置包括入流接管座(3)和偏转组件(1),所述的偏转组件在下游方向与入流接管座邻接,并设置有弯曲的导流板(11、12和13),中间和横向支流(分别为131、132、133和134、135、136)由给入的流体流经所述的偏转组件生成,通过在所述的设备的中心区域的相互作用形成缓慢地流动,
其特征在于:
所述的偏转组件包括具有多条入口通道(31、32、...36)的输入区,在所述的入口通道内的断面保持恒定,所述的输入区至少部分位于所述的入流接管座内;所述的入口通道并入扩散状的由弯曲的导流板形成的通道;以及至少具有两层,每一层至少具有一中间通道(31、32和33)和两条横向通道(34、35和36),并且第二层的所述的支流和可选择的设置在更下方的第三层的所述的支流通过弯曲的导流板向下偏转。
2.如权利要求1所述的流体入口装置,其特征在于:三条通道分别设置在三层上;以及两弯曲的导流板(11)在所述的偏转组件(1)内将中间通道与横向通道隔开。
3.如权利要求1或2所述的流体入口装置,其特征在于:所述的偏转组件(1)制成相对于设备的中心轴上的垂直平面(21)镜像对称;或所述的偏转组件制成不对称,当制作成不对称时,形成相对于流经所述的流接管座(3)的给入流体的不对称。
4.如权利要求1-3中之一所述的流体入口装置,其特征在于:最上方的通路由至少一块平面的或弯曲的壁板进行覆盖,所述的壁板对准水平方向或在上方中间支流的方向上向下倾斜;或覆盖壁板在流动方向上向下弯曲。
5.如权利要求1-4中之一所述的流体入口装置,其特征在于:所述的中间入口通道(31、32和33)的水平宽度由顶部至底部会聚。
6.如权利要求1-5中之一所述的流体入口装置,其特征在于:所述的入口通道(31、32和33)和在其下游方向的所述的扩散状通道部分形成为,使得流入的流体的压力损失最小化或相当地小。
7.如权利要求1-6中之一所述的流体入口装置,其特征在于:肋型的偏转部件(14)设置于所述的弯曲的导流板(11、12和13)的凹入表面上;和/或弯曲的的导流板(11、12和13)以袋状方式形成于出口侧边缘部分,使得在所述的导流板上沉积的液相,出的,通过袋状边缘从所述的给入的流体中排出。
8.一种设备,尤其是柱状设备(2),具有至少一个如权利要求1-7之一所述的流体入口装置,其中由中间通道(31)所给定的支流方向指向中心区域的中心或指向中心区域的偏心点。
9.一种如权利要求1-7之一所述的流体入口装置的用途,用于将多相或单相的流体给入,并对流体进行分配,尤其是一种承载有稠密相的气体,例如:液滴,或所述的流体也可以仅由一种材料或一种单相的混合物材料组成,并且通过利用所述的流体的惯性力,使得高密度的分散相至少可以部分地得到沉淀。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏舍化学技术有限公司,未经苏舍化学技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710102912.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。