[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及适用于将掩模的掩模图案以分割逐次曝光方式接近(靠近)曝光转印到液晶显示器或等离子显示器等大型平板显示器的基板上的曝光装置及曝光方法。

背景技术

以前，对制造液晶显示器装置或等离子显示器装置等平板显示器装置的彩色滤光片的曝光装置进行了各种提案(例如，参见日本专利文献1)。记载在专利文献1中的曝光装置使用比作为被曝光件的基板小的掩模，用掩模装载台保持该掩模并用工件装载台保持基板，使两者接近地相对配置。而且，在该状态下使基板和掩模相对移动(一般移动基板)，在每步中从掩模侧向基板照射图案曝光用的光，由此将设在掩模上的掩模图案曝光转印到基板上的多个部位，从而制成显示器等。

在上述那样的曝光装置中，例如，在使基板相对掩模进行步进移动时，通常，在已使基板下降或使掩模上升之后，进行步进移动，之后，使基板上升或使掩模下降，以进行曝光时的间隙调整。例如，如图24所示，当规定位置的曝光转印结束时(步骤S101)，例如输送机构的工件装载台动作，基板沿垂直方向下降(Z轴退避)  (步骤S102)。接着，沿水平方向(XY方向)步进移动输送机构(步骤S103)、以使基板位于下个曝光位置，之后，使工件装载台沿垂直方向上升(Z轴上升)(步骤S104)，直到基板与掩模之间的间隙达到所需的间隙量。而且，进行间隙调整及对准调整(步骤S105)，进行下次曝光转印。

专利文献1：特开平9-127702号公报

发明内容

可是，这种曝光转印时的动作虽然没有基板和掩模接触而导致掩模破损的担忧、安全性高，但是在使基板沿垂直方向下降及上升的动作中花费时间，会给生产量带来不能忽略的影响。

本发明就是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能在确保安全性的同时进行短时间内的步进动作，从而能使生产量提高的曝光装置及曝光方法。

本发明的上述目的通过以下结构实现。

(1)一种曝光装置，具有保持作为被曝光件的基板的工件装载台；与基板相对配置并保持掩模的掩模装载台；将图案曝光用的光通过掩模照射到基板的照射单元；使工件装载台和掩模装载台中的一个相对另一个沿水平方向及垂直方向相对移动、以使掩模的掩模图案与基板上的多个规定位置相对的输送机构；及控制输送机构的控制装置，其特征在于，控制装置控制输送机构，以使输送机构的水平方向的相对移动和垂直方向的相对移动同步。

(2)根据(1)记载的曝光装置，其特征在于，输送机构具有用于沿水平方向移动工件装载台的马达；在水平方向的相对移动中，控制装置根据马达的状态信号控制输送机构，以开始掩模和基板相互接近的垂直方向的相对移动。

(3)根据(2)记载的曝光装置，其特征在于，在水平方向的相对移动中，当马达的旋转速度减速到规定速度以下时，控制装置控制输送机构，以开始掩模和基板相互接近的垂直方向的相对移动。

(4)根据(1)～(3)中任一项记载的曝光装置，其特征在于，控制装置控制输送机构，以在到比曝光时的掩模和基板间的曝光间隙大的第一间隙之前，使水平方向的相对移动与掩模和基板相互接近的垂直方向的相对移动同步，而且，从第一间隙到曝光间隙，仅进行掩模和基板相互进一步接近的垂直方向的相对移动。

(5)根据(1)～(3)中任一项记载的曝光装置，其特征在于，控制装置控制输送机构，以从曝光时的掩模和基板间的曝光间隙到比曝光间隙大的第二间隙，仅进行掩模和基板相互远离的垂直方向的相对移动，而且，越过第二间隙之后，使水平方向的相对移动与掩模和基板相互进一步远离的垂直方向的相对移动同步。

(6)使用(1)～(3)记载的曝光装置的曝光方法，其特征在于，输送机构使水平方向的相对移动和垂直方向的相对移动同步地进行。

根据本发明，由于控制装置控制输送机构，以使输送机构的水平方向的相对移动和垂直方向的相对移动同步，所以能在确保安全性的同时进行短时间内的步进动作，从而能缩短曝光动作的间隔时间，由此，能提高生产率。

附图说明

图1为部分分解根据本发明第一实施方式的分割逐次接近曝光装置的透视图。

图2为掩模装载台部分的放大透视图。

图3(a)为图2的III-III线剖视图，图3(b)为图3(a)的掩模位置调整机构的顶视图。

图4为说明工件侧对准标记的照射光学系统用的说明图。

图5为表示对准图像的焦距调整机构的构成图。

图6为表示对准摄像机与该对准摄像机的焦点调整机构的基本构造的侧视图。