[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，具有：

保持作为被曝光件的基板的工件装载台；

与所述基板相对配置并保持掩模的掩模装载台；

将图案曝光用的光通过所述掩模照射到所述基板的照射单元；

使所述工件装载台和所述掩模装载台中的一个相对另一个沿水平方向及垂直方向相对移动、以使所述掩模的掩模图案与所述基板上的多个规定位置相对的输送机构；及

控制所述输送机构的控制装置，

其特征在于，所述控制装置控制所述输送机构，以使所述输送机构的所述水平方向的相对移动和所述垂直方向的相对移动同步。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述输送机构具有沿水平方向移动所述工件装载台用的马达；

在水平方向的相对移动中，所述控制装置根据所述马达的状态信号控制所述输送机构，以开始所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相对移动。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

在所述水平方向的相对移动中，当所述马达的旋转速度减速到规定速度以下时，所述控制装置控制所述输送机构，以开始所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相对移动。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制装置控制所述输送机构，以在到比曝光时的所述掩模和所述基板间的曝光间隙大的第一间隙之前，使所述水平方向的相对移动与所述掩模和所述基板相互接近的所述垂直方向的相对移动同步，而且，从所述第一间隙到所述曝光间隙，仅进行所述掩模和所述基板相互进一步接近的所述垂直方向的相对移动。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制装置控制所述输送机构，以从曝光时的所述掩模和所述基板间的曝光间隙到比该曝光间隙大的第二间隙，仅进行所述掩模和所述基板相互远离的所述垂直方向的相对移动，而且，越过所述第二间隙之后，使所述水平方向的相对移动与所述掩模和基板相互进一步远离的所述垂直方向的相对移动同步。

6.一种使用权利要求1～3所述的曝光装置的曝光方法，其特征在于，所述输送机构使所述水平方向的相对移动和所述垂直方向的相对移动同步地进行。