[发明专利]制造用于压电谐振器的声反射镜和制造压电谐振器的方法

权利要求书

1.制造具有交迭配置的高和低声阻抗层的声反射镜(106)的方法，其中所述反射镜包括层序列，此层序列具有至少一个高声阻抗层(106a₁，106a₂)和至少一个低声阻抗层(106b₁，106b₂)，包括步骤：

(a)制作层序列的第一层(106b₁，106b₂)；

(b)在第一层(106b₁，106b₂)之上制作层序列的第二层(106a₁，106a₂)，以使得第二层(106a₁，106a₂)部分地覆盖第一层(106b₁，106b₂)；

(c)在第一层(106b₁，106b₂)和第二层(106a₁，106a₂)之上应用一平坦化层(132)；

(d)通过对所述平坦化层(132)进行刻蚀处理而暴露出第二层(106a₁，106a₂)的一部分(134)，其中第二层(106a₁，106a₂)的所暴露部分(134)与压电谐振器的有源区域(122)相关，所述刻蚀处理参考所述声反射镜结构最上层的材料而具有选择性，使得所述最上层被作为刻蚀终止层；以及

(e)通过去除至少保留在第二层(106a₁，106a₂)的所暴露部分(134)之外的部分平坦化层(132)来平坦化从步骤(d)中得到的结构，

其中，反射镜具有多个第一层(106b₁，106b₂)和多个第二层(106a₁，106a₂)，其中此方法包括下列步骤：

对每个连续的第一层(106b₁，106b₂)和第二层(106a₁，106a₂)重复步骤(a)至(e)。

2.权利要求1所述的方法，其中第二层(106a₁，106a₂)是导电层。

3.权利要求1所述的方法，其中步骤(b)包括构建第二层(106a₁，106a₂)，其中多个第二层(106a₁，106a₂)用相同的掩模构建，以制作相同尺寸的被构建的第二层(106a₁，106a₂)。

4.权利要求1所述的方法，其中步骤(b)包括构建第二层(106a₁，106a₂)，其中多个第二层(106a₁，106a₂)的每个采用不同的掩模构建，以影响反射镜的预定形状。

5.权利要求4所述的方法，其中反射镜的预定形状包括截面圆锥形或截面金字塔形。

6.权利要求1所述的方法，其中步骤d)进一步包括采用一掩模构建平坦化层(132)。

7.权利要求6所述的方法，其中掩模包括抗蚀剂掩模或硬掩模。

8.权利要求1所述的方法，进一步包括在提供第二层之前，在第一层(106b₁，106b₂)之上应用一刻蚀终止层。

9.权利要求1所述的方法，其中第一层(106b₁，106b₂)是不导电层，且其中第二层(106a₁，106a₂)是导电层。

10.权利要求1所述的方法，其中第一层(106b₁，106b₂)是氧化物层，且其中第二层(106a₁，106a₂)是钨层。