[发明专利]光源、光源控制方法及光源更换方法无效
| 申请号: | 200710091076.X | 申请日: | 2007-04-06 |
| 公开(公告)号: | CN101052257A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
| 发明(设计)人: | 关川和成 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
| 主分类号: | H05B33/08 | 分类号: | H05B33/08;H05B37/02;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 李峥;杨晓光 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光源 控制 方法 更换 | ||
1.一种光源控制方法,其控制构成为具有多个激光二极管的光源的整体的发光输出,其特征在于,包括:
生成步骤,按照每一个包括所述激光二极管和控制该激光二极管的发光输出的该激光二极管专用的控制板的组,预先生成校正数据,该校正数据规定了用于驱动所述控制板的控制值和所述控制板根据该控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出的测定值的对应关系;和
控制步骤,根据所述每个组的所述校正数据控制所述光源的整体的发光输出。
2.根据权利要求1所述的光源控制方法,其特征在于,还包括调整步骤,调整各个所述控制板的电路参数,使所述控制板根据规定的所述控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出,对于构成所述光源的所有所述激光二极管相同或接近。
3.根据权利要求1或2所述的光源控制方法,其特征在于,所述光源用于通过在相对移动的曝光对象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光图形的直接曝光装置中产生对所述曝光面上进行曝光的光。
4.根据权利要求3所述的光源控制方法,其特征在于,所述直接曝光装置是下面所述的装置,即,使来自所述光源的光照射数字微镜设备,使在该数字微镜设备中反射的光照射在相对该数字微镜设备进行相对移动的曝光对象物的曝光面上,由此在所述曝光面上形成所期望的曝光图形,
构成所述光源的各个所述激光二极管被控制成使得所述光源向所述数字微镜设备的照射面上照射均匀的光。
5.一种光源更换方法,是在构成为具有多个激光二极管的光源中,更换所述多个激光二极管中任一个的光源更换方法,其特征在于,
把所述要更换的激光二极管和控制该要更换的激光二极管的发光输出的该要更换的激光二极管专用的控制板,更换为新的激光二极管和控制该新的激光二极管的发光输出的该新的激光二极管专用的新的控制板,并且,
把按照每一个包括所述激光二极管和控制该激光二极管的发光输出的该激光二极管专用的控制板的组、规定了用于驱动所述控制板的控制值和所述控制板根据该控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出的测定值的对应关系、并用于控制所述光源的整体的发光输出的各个校正数据中、用于控制所述要更换的激光二极管的发光输出的所述校正数据,更换为用于规定包括所述新的激光二极管和控制该新的激光二极管的发光输出的该新的激光二极管专用的新的控制板的组的所述校正数据。
6.根据权利要求5所述的光源更换方法,其特征在于,预先调整各个所述控制板的电路参数并生成所述校正数据,使得所述控制板根据规定的所述控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出,对于构成所述光源的所有所述激光二极管相同或接近。
7.根据权利要求5或6所述的光源更换方法,其特征在于,所述光源用于通过在相对移动的曝光对象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光图形的直接曝光装置中产生对所述曝光面上进行曝光的光。
8.根据权利要求7所述的光源更换方法,其特征在于,所述直接曝光装置是下面所述的装置,即,使来自所述光源的光照射数字微镜设备,使在该数字微镜设备中反射的光照射在相对该数字微镜设备进行相对移动的曝光对象物的曝光面上,由此在所述曝光面上形成所期望的曝光图形,
各个所述激光二极管是被控制成使得所述光源向所述数字微镜设备的照射面上照射均匀的光的激光二极管。
9.一种光源,其构成为具有多个激光二极管,其特征在于,
所述光源的整体的发光输出根据校正数据被控制,该校正数据预先按照每一个包括所述激光二极管和控制该激光二极管的发光输出的该激光二极管专用的控制板的组而生成,规定了用于驱动所述控制板的控制值和所述控制板根据该控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出的测定值的对应关系。
10.根据权利要求9所述的光源,其特征在于,调整各个所述控制板的电路参数使得所述控制板根据规定的所述控制值进行驱动时的所述激光二极管的实际发光输出对于构成所述光源的所有所述激光二极管相同或接近。
11.根据权利要求9或10所述的光源,其特征在于,所述光源用于通过在相对移动的曝光对象物的曝光面上直接曝光形成所期望的曝光图形的直接曝光装置中产生对所述曝光面上进行曝光的光。
12.根据权利要求11所述的光源,其特征在于,所述直接曝光装置是下面所述的装置,即,使来自所述光源的光照射数字微镜设备,使在该数字微镜设备中反射的光照射在相对该数字微镜设备进行相对移动的曝光对象物的曝光面上,由此在所述曝光面上形成所期望的曝光图形,
构成所述光源的各个所述激光二极管被控制成使得所述光源向所述数字微镜设备的照射面上照射均匀的光。
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