[发明专利]联机式涂敷装置

权利要求书

1、一种联机式涂敷装置，其包括：

作业平台，其提供的作业面长度足以在基板输送过程中完成涂敷作业；

悬浮台，其通过气体喷射压力使基板水平悬浮在所述作业面上；

输送装置，其用于吸附及固定悬浮状基板，同时通过驱动源的动力，沿所述作业面输送基板；

狭缝式涂敷装置，其具有细长的切口即吐出口，并通过所述吐出口对沿着所述作业面移动的基板涂敷光致抗蚀剂；

吐出调整装置，其具有可分离地接触在所述吐出口端部的平整面，并以与平整面面接触的状态推压粘接在所述吐出口端部上的光致抗蚀剂，使光致抗蚀剂沿所述吐出口的切开方向均匀分布。

2、根据权利要求1所述的联机式涂敷装置，其特征在于：

所述输送装置包括至少两个真空吸盘，该吸盘可分离地吸附基板的相对应侧边中至少一处，并通过驱动源驱动，可沿着所述作业面进行直线移动。

3、根据权利要求1所述的联机式涂敷装置，其特征在于：

所述狭缝式涂敷装置，设置在所述作业面的基板移送区段的一侧，且能够沿上下方向移动，以接近基板表面或反方向移动。

4、根据权利要求1所述的联机式涂敷装置，其特征在于：

所述平整面，可移动地设置在所述作业面上，且能够移动至与所述吐出口的端部相对应的位置，或者脱离该位置。

5、根据权利要求1所述的联机式涂敷装置，其特征在于：

在所述平整面与所述吐出口端部相对的状态下，其间距为50微米至100微米范围。

6、根据权利要求1所述的联机式涂敷装置，其特征在于：

进一步包括用于清洗所述吐出口或平整面的清洗装置；所述清洗装置，可通过利用接触力或清洗用流体来除去异物和残余的光致抗蚀剂。