[发明专利]一种含贵金属的微孔钛硅材料及其制备方法

权利要求书

1. 一种含贵金属的微孔钛硅材料，其特征在于该材料的组成用氧化物的形式表示为xTiO₂·100SiO₂·yE_mO_n·zE，其中x值为0.001～50.0、(y+z)值为0.005～20.0且y/z＜1，E表示选自Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt和Au中的一种或几种贵金属，m和n为满足E氧化态所需的数，该材料晶粒部分或全部为空心结构。

2. 按照权利要求1的微孔钛硅材料，其特征在于所说的贵金属E选自Pd、Pt和Au中的一种或几种。

3. 按照权利要求1的微孔钛硅材料，其特征在于所说的贵金属E为Pd和Pt。

4. 按照权利要求1的微孔钛硅材料，其特征在于所说的贵金属E为Pd。

5. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征在于所说的x值为0.005～25.0、(y+z)值为0.01～10.0。

6. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征在于该材料的晶粒全部或部分为空心结构，空心晶粒的空腔部分的径向长度为2～300纳米。

7. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征在于该材料在25℃，P/P₀＝0.10，吸附时间1小时的条件下测得的苯吸附量为至少50毫克/克。

8. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征在于该材料的低温氮吸附的吸附等温线和脱附等温线之间存在滞后环。

9. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征在于该材料其空心晶粒的空腔部分的形状选自矩形、圆形、不规则圆形和不规则多边形中的一种或者几种的结合。

10. 按照权利要求1-4之一的微孔钛硅材料，其特征为该材料晶粒为单个晶粒或者由多个晶粒聚集成的聚集晶粒。

11. 权利要求1中含贵金属的微孔钛硅材料的制备方法，其特征在于包括：

(1)将钛硅分子筛、保护剂、贵金属源和还原剂加入到含有碱源的溶液中混和均匀，得到混合物组成为：钛硅分子筛∶保护剂∶碱源∶还原剂∶贵金属源∶水＝100∶(0.0001～5.0)∶(0.005～5.0)∶(0.005～15.0)∶(0.005～10.0)∶(200～10000)，其中钛硅分子筛以克计，保护剂、碱源、还原剂和水以摩尔计，贵金属源以贵金属单质克计；

(2)将步骤(1)所得的混合物转入反应釜中，水热处理条件下反应，回收产物即得微孔钛硅材料。

12. 按照权利要求11的制备方法，其中步骤(1)所说的钛硅分子筛选自TS-1、TS-2、Ti-BETA和Ti-MCM-22中的一种或混合物。

13. 按照权利要求11的制备方法，其中步骤(1)所说的钛硅分子筛为TS-1。

14. 按照权利要求11的制备方法，其中步骤(1)所说的保护剂为聚合物，选自聚丙烯、聚乙二醇、聚苯乙烯、聚氯乙烯和聚乙烯中的一种或它们的混合物。

15. 按照权利要求11的制备方法，其中步骤(1)所说的保护剂为表面活性剂，选自阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂或者非离子表面活性剂。

16. 按照权利要求11的制备方法，其中步骤(1)中所说的还原剂为肼、硼氢化物或柠檬酸钠。

17. 按照权利要求16的制备方法，所说的肼为水合肼、盐酸肼或硫酸肼。

18. 按照权利要求16的制备方法，所说的硼氢化物为硼氢化钠或硼氢化钾。

19. 按照权利要求的制备方法，其中步骤(1)所说的贵金属源选自贵金属的氧化物、卤化物、碳酸盐、硝酸盐、硝酸铵盐、氯化氨盐、氢氧化物或贵金属的其它络合物。

20. 按照权利要求11的制备方法，其中所说的贵金属源为钯源。

21. 按照权利要求20的制备方法，所说钯源为无机钯源和/或有机钯源。

22. 按照权利要求21的制备方法，其中所说的无机钯源选自氧化钯、碳酸钯、氯化钯、硝酸钯、硝酸铵钯、氯化氨钯、氢氧化钯或者钯的其它络合物。