[发明专利]磁套筒喷砂后去尖点工艺

权利要求书

1.一种磁套筒喷砂后去尖点工艺，其工艺步骤包括：

(1).磁套筒上夹具：将磁套筒固定安装在专用夹具上备用；

(2).磨料入槽：打开抛光机机盖和抛光槽的密封盖，将磨料装进抛光槽里；

(3).加发泡剂、注水：在抛光槽中加发泡剂后槽内注满水；

(4).磁套筒入槽：将装上夹具的磁套筒放置在抛光槽中，关上抛光槽的密封盖和抛光机机盖；

(5).抛光：启动抛光机按设定的时间进行抛光：

(6).将磁套筒从夹具上卸下：打开抛光机机盖和抛光槽的密封盖，取出磁套筒后，将磁套筒从夹具上卸下；

(7).冲洗：将从夹具上卸下的磁套筒立即用水冲洗；

(8).装入托盘：将冲洗干净的磁套筒放置在托盘上沥水；

(9).烘干：将磁套筒放入烘箱进行烘干后取出送入检验。

2.如权利要求1所述的磁套筒喷砂后去尖点工艺，其特征在于：所述的专用夹具包括上定位盖(1)、上定位碗(3)和下定位板(6)，在下定位板(6)上焊有连接杆(4)和下定位销(8)，连接杆(4)的上端装有防转定位键(5)，在上定位碗(3)的内表面和下定位销(8)的外表面分别镶有用于保护磁套筒(11)的聚氨脂套(2)和(7)，在上定位盖(1)和下定位板(6)上分别有与之加工为一体的手柄(9)。