[发明专利]一种非球面光栅复制的新方法无效
| 申请号: | 200710056042.7 | 申请日: | 2007-09-07 |
| 公开(公告)号: | CN101126825A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
| 发明(设计)人: | 李文昊;巴音贺希格;齐向东;唐玉国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;B29D11/00 |
| 代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 | 代理人: | 赵炳仁 |
| 地址: | 130033吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 球面 光栅 复制 新方法 | ||
1.一种非球面光栅复制的新方法,其特征在于:第一步、母版非球面光栅的选择;任何一次的复制都要选择光栅技术参数满足设计、使用要求的母版非球面光栅,因为用来复制的母版非球面光栅是决定复制后的非球面光栅的性能和质量的基本依据;母版非球面光栅的表面质量要好,表面的任何疵病都会在复制后的非球面光栅上体现出来;第二步、复制基底的选择,包括一次复制基底和二次复制基底的选择;母版非球而光栅是凹面的,一次复制基底应该选择凸球面,并且一次复制基底的凸球面与母版非球面光栅的凹凸面相对匹配时,两个面形四周接触,中间部分是分离的,这样可使光栅与基底之间的环氧树脂胶能留存住;根据非球面方程式y2+z2=2Rx-(1-e2)x2,求解出凹凸相匹配的球面曲率半径。式中,R表示顶点曲率半径,e2表示二次常数;根据母版非球面光栅基底与一次复制基底相互接触后的峰-谷值为最小的原则,通过非球面方程式数值算例精确求解出与母版非球面凹面光栅的最接近比较球面的凸球面半径,这也就是一次复制基底的半径;选择二次复制基底时,将母版非球面光栅看成凸面,二次复制基底应该选择凹面的,并且在母版凸非球面光栅的面形与二次复制基底凹球面相对匹配时,两个面是四周接触,中间部分是分离的,这样有利于两镜面中间的环氧树脂胶不向外流,根据母版非球面光栅基底与二次复制基底相互接触后的峰-谷值为最小的原则,通过非球面方程式数值算例精确求解出母版非球面光栅的最接近比较球面的凹球面半径,这也就是二次复制基底的半径;第三步、一次复制版的制作,首先将母版非球面光栅(1)放入真空镀膜机中分别镀分离油膜(2)和铝膜(3),取出后将环氧树脂胶涂在母版非球面光栅(1)的铝膜(3)上,形成环氧树脂胶层(4),接着将一次复制基底(5)与带有分离油膜(2)、铝膜(3)和环氧树脂胶(4)的母版非球面光栅(1)粘结,然后放入干燥箱中固化,最后分离和清洁处理,即可得到面形为凸球面的一次复制版(6);第四步、二次复制版的制作,将一次复制版(6)放入真空镀膜机中分别镀分离油膜(7)、铝膜(8),取出后将环氧树脂胶(9)涂在一次复制版(6)的铝膜(8)上,接着将二次复制基底(10)与带有分离油膜(7)、铝膜(8)和环氧树脂胶(9)的一次复制版(6)粘结,然后放入烘箱中固化,最后分离和清洁处理,即可得到二次复制版(11),该版是与母版非球面光栅(1)面形相同的复制出的非球面光栅。
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