[发明专利]用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻装置的对准技术，尤其涉及用于光刻装置的掩模对准标记及采用该对准标记的对准方法。

背景技术

在工业装置中，由于高精度和高产能的需要，分布着大量高速实时信号采样、数据采集、信号实时处理系统。其中信号实时处理系统需要采用有效的信息处理模型和方法达到高精密、高效率的要求。有该需求的装置包括：集成电路制造光刻装置、液晶面板光刻装置、光掩模刻印装置、MEMS/MOEMS光刻装置、先进封装光刻装置、印刷电路板光刻装置、印刷电路板加工装置等。

在以前的上述装置中，为了实现掩模图形对工件台基准板上对准标记的对准，并生成高精度的对准扫描信息，需要有能够产生高精度对准扫描信息的掩模对准标记。

现有的对准标记，要么捕获能力较差，需要在掩模上增加辅助的掩模对准标记，并增加较多的对准扫描方式，进行逐级捕获，从而降低了对准效率；要么单个对准标记的信号对比度不高，用虚拟的数字处理方法虽然能够提高信号对比度，但同时也同步放大了噪声水平，并不能从物理上提高信噪比，从而限制了对准重复精度的提高。

发明内容

本发明所解决的技术问题在于提供一种提高对准扫描的捕获能力和对准信息的对比度的掩模对准标记，以及用所提供的掩模对准标记进行掩模对准扫描，实现提高掩模对准标记空间像的捕获能力、对准精密度和对准效率的方法。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种掩模对准标记，分别置于掩模台的掩模上和工件台的基准板上，用于提供掩模光学对准，其中，所述的掩模对准标记包括第一、第二和第三对准标记分支，其中，第一和第三对准标记分支由三个光栅标记结构组成，第二对准标记分支呈方形透射孔状分布，且第一和第三对准标记分支关于第二对准标记分支互为旋转90°替换。

进一步地，所述的第一和第三对准标记分支由第一、第二和第三光栅标记结构沿与光栅垂直方向并排构成，其中第一和第三光栅标记结构完全相同，分布在第二光栅标记结构两侧。

进一步地，第二光栅标记结构的长度是第一和第三光栅标记结构的1.2倍至100倍，或者第一和第三光栅标记结构的长度是第二光栅标记结构的1.2倍至100倍，且所述第一、第二和第三光栅标记结构中的栅被细分为三个细小光栅。

进一步地，工件台基准板上的掩模对准标记中对应第一、第三对准标记分支的所有光栅标记结构的占空比同掩模上的掩模对准标记中对应所有光栅标记结构的占空比不相等，而工件台基准板上和掩模上的掩模对准标记中第一、第三对准标记分支的所有光栅标记结构内部的细小光栅的占空比根据对准信号调制与测量要求确定。