[发明专利]一种高密度无机材料光栅的制备方法无效
| 申请号: | 200710018545.5 | 申请日: | 2007-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN101165514A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
| 发明(设计)人: | 赵高扬;王哲哲 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
| 主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
| 代理公司: | 西安弘理专利事务所 | 代理人: | 罗笛;谈耀文 |
| 地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高密度 无机 材料 光栅 制备 方法 | ||
1.一种高密度无机材料光栅的制备方法,其特征在于,该方法按以下步骤进行,
a.采用感光溶胶-凝胶法制备感光薄膜
以金属化合物、酮类或二酮类化合物为出发原料,采用溶胶-凝胶法制备具有紫外感光性的含金属螯合物的凝胶薄膜,通过提拉,旋涂等方法将凝胶薄膜涂在硅基底上;
b.采用激光干涉法制备高密度光栅,并使之转化为无机材料光栅
采用紫外激光器作为光源,使两束满足干涉条件的平行光以相同的角度照射到步骤a得到的感光凝胶薄膜表面,使之产生干涉条纹,干涉曝光后,将凝胶薄膜和基板浸入有机溶剂中,未光照区域在有机溶剂中完全溶解,光照区域则保留下来,从而得到凝胶薄膜光栅;
进一步在大气环境下,将凝胶薄膜光栅进行热处理,使之转化为无机材料光栅;
c.对无机材料光栅进行化学刻蚀
配制硅的各向异性化学刻蚀剂,搅拌至澄清,将上步得到的无机材料光栅浸入刻蚀剂中,在超声波中进行刻蚀,得到一个表面被无机材料薄膜覆盖的硅槽光栅;
d.将上步刻蚀后的光栅进行表面镀金处理,即完成制备过程。
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