[发明专利]G3级氮化硅球加工工艺无效
申请号: | 200710014442.1 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101049676A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 王作山 | 申请(专利权)人: | 山东东阿钢球集团有限公司 |
主分类号: | B24B11/00 | 分类号: | B24B11/00;C09K3/14 |
代理公司: | 济南圣达专利商标事务所 | 代理人: | 王吉勇 |
地址: | 252201山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | g3 氮化 加工 工艺 | ||
1.一种G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于,包括以下步骤:
a.消除毛坯工件内应力;
b.粗磨;将步骤a中消除内应力的毛坯工件放入立式循环研球机上进行粗磨加工,并加入油剂和混磨剂,加工后球直径变动量小于0.5μm,球形误差小于0.5μm,表面粗糙度小于0.10μm;
c.初研;将粗磨后的工件在立式循环研球机上进行初研加工,并加入油剂和混磨剂,加工后球直径变动量小于0.25μm,球形误差小于0.25μm,表面粗糙度Ra小于0.05μm;
d.精研;将初研后的工件在立式循环研球机上进行精研加工,并加入油剂和混磨剂,加工后球直径变动量小于0.12μm,球形误差小于0.12μm,表面粗糙度Ra小于0.012μm;
e.超精研;将精研后的工件在立式循环研球机上进行超精研加工,加入油剂,不加混磨剂,加工后球直径变动量小于0.08μm,球形误差小于0.08μm,表面粗糙度Ra小于0.010μm;
f.提光处理;将超精研的工件在立式循环研球机上进行提光处理,加工后球表面光亮,球直径变动量小于0.08μm,球形误差小于0.08μm,表面粗糙度Ra小于0.010μm;
g.将加工好的氮化硅球取出洗净,选择并进行包装。
2.根据权利1所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤a中所述的消除毛坯工件内应力是指将毛坯工件在加热设备上加热6~8小时,达到130~160℃,然后空冷到室温。
3.根据权利2所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:所述的加热设备为烘干箱或加热炉。
4.根据权利1所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤b、c、d和e中的所述的油剂是柴油;所述的混磨剂是由不同工序中的不同粒度的磨料和硬脂酸按重量比1/2~3/4在混磨机上充分混磨制成,并且在步骤b、c和d中每隔30~60分钟添加一次混磨剂。
5.根据权利4所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:所述的磨料是氧化铝或碳化硅或碳化硼。
6.根据权利4或5所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤b中磨料粒度为320~300目,加工压力为1.5~3KN,主轴转速为60r/min。
7.根据权利4或5所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤c中磨料粒度为320~300目,加工压力为0.5~1.5KN,主轴转速为30~40r/min。
8.根据权利4或5所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤d中磨料粒度为300~280目,加工压力为0.5~1.0KN,主轴转速为30~40r/min。
9.根据权利1所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤e中加工压力为0.4~0.8KN,主轴转速为20~30r/min。
10.根据权利1所述的G3级氮化硅球加工工艺,其特征在于:步骤f中提光处理是在柴油油剂中添加氧化铬进行研磨提光,其中的参数为:加工压力为0.4~0.8KN,主轴转速为20~30r/min。
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