[发明专利]重复抹写晶片卡的制程方法无效
| 申请号： | 200710003865.3 | 申请日： | 2007-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN101221627A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 陈秀梅;许曙辉 | 申请（专利权）人： | 奈讯控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K19/07 | 分类号： | G06K19/07 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 曾旻辉;胡杰 |
| 地址： | 英属维尔京群岛托*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 重复 晶片 方法 | ||
1.一种重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：其步骤包括：
步骤一：将一心层两表面皆黏贴一外层；
步骤二：将两重复抹写膜黏贴于外层，并经由高温钢板的压制，即完成晶片卡的制作。
2.如权利要求1所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述心层由一聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride，PVC)材质制成。
3.如权利要求2所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述心层包含有一RFID晶片暨天线，使得该心层可接收讯号及发送讯号。
4.如权利要求1所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述外层由一聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)材质制成。
5.如权利要求4所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述外层可视需要于其一表面或两表面印刷一油墨层。
6.一种重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：其步骤包括：
步骤一：将一心层两表面皆黏贴一外层；
步骤二：将一重复抹写膜黏贴于外层，并经由高温钢板的压制，即完成晶片卡的制作。
7.如权利要求6所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述心层由一聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride，PVC)材质制成。
8.如权利要求7所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述心层包含有一RFID晶片暨天线，使得该心层可接收讯号及发送讯号。
9.如权利要求6所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述外层由一聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)材质制成。
10.如权利要求9所述的重复抹写晶片卡的制程方法，其特征在于：所述外层可视需要于其一表面或两表面印刷一油墨层。
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