[发明专利]利用深池化学反应有选择地回收TFT－LCD玻璃基底的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种利用深池化学反应(chemicals reactive deep bath)方法有选择地回收TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)的玻璃基底的方法。本发明尤其涉及这样一种使用深池化学反应方法有选择地回收TFT-LCD的玻璃基底的方法，即，其使用深池化学反应方法顺序地去除在有缺陷的TFT-LCD玻璃基底的上表面和下表面上形成的层，从而回收TFT-LCD玻璃基底。

背景技术

TFT-LCD板包括在其上形成薄膜晶体管和传导层的下玻璃基底、在其上形成滤色镜的上玻璃基底、介于下玻璃基底和上玻璃基底之间的液晶层、以及位于下玻璃基底下方的光源。

在TFT-LCD板的上玻璃基底上形成滤色镜的过程中，金属氧化物(例如氧化铬)或有机材料形成黑色矩阵(black matrix)。

在使用有机黑色矩阵材料形成滤色镜时，形成黑色矩阵层，并利用光刻胶对其进行构图，在形成的图案上涂敷荧光材料，并在其上形成用于保护荧光材料的外涂层。玻璃基底的材料成本占用了TFT-LCD板的大部分制造成本，因此，如果将在形成滤色镜过程中产生的有缺陷的上玻璃基底回收，则可以减少TFT-LCD板的制造成本。

此外，未进行回收处理的有缺陷的玻璃基底，将被作为废品处理掩埋于地下。这会造成环境污染。

回收LCD玻璃基底的传统方法的步骤如下：首先将装载有多个有缺陷的玻璃基底的盒子浸入在填充有清洗液的溶胀池(swelling bath)中，然后从外清洗液容器中不断地循环清洗液，以提高溶胀效应，接着将清洗液排放到清洗液容器中，并风干感光树脂层的表面。

在这种情况下，当将有缺陷的玻璃基底机械地载入到盒子中并移动时，可能会对玻璃基底造成损坏。此外，由于将具有不同缺陷特征的玻璃基底浸入同一个溶胀池中进行清洗，因此在玻璃基底的表面会因为玻璃基底的不规则表面和不良的反应特征而留下微粒，并且玻璃基底会由于尺寸不同而损坏。

此外，仅将玻璃基底浸入到溶胀池中并不能够完全去除在玻璃基底上形成的感光树脂层，因此，在玻璃基底上会留下有机残留物或光刻胶残留物。

因此，需要这样一种回收有缺陷的玻璃基底的方法，其具有能够防止在移动时损坏有缺陷的玻璃基底、并能够完全去除感光材料和有机材料的标准化处理。

发明内容

因此，针对现有技术中存在的上述问题提出了本发明，其主要目的在于提供一种使用深池化学反应方法有选择地回收TFT-LCD玻璃基底的方法，使用该方法仅清洗在TFT-LCD玻璃基底上形成的层的特殊部分，以根据用户的请求回收在其上留有特殊层的玻璃基底。

本发明的另一个目的在于提供这样一种使用深池化学反应方法有选择地回收TFT-LCD玻璃基底的方法，该方法能够防止在移动时损坏在形成TFT-LCD滤色镜的过程中产生的有缺陷的玻璃基底、并能够完全去除有机层和不需要的材料，以有效地回收有缺陷的玻璃基底。

为了实现上述目标，根据本发明提供了一种使用深池化学反应的方法有选择地回收TFT-LCD玻璃基底的方法，包括：检查处理步骤，用肉眼检查以确认所述玻璃基底的型号、数量和状态；层去除处理步骤，将各个玻璃基底浸入到含有强酸性或强碱性化学溶液的池中，所述强酸性化学溶液由10％的NHO₃、25％的HCl以及65％的去离子水混合而成，所述强碱性化学溶液由10％的KOH、18.5％的MEA、18.5％的DMSO、18％的BDG和35％的去离子水的混合而成，所述池还包括振动发生器，并驱动所述振动发生器振动所述的化学溶液并导致化学反应，从而将在所述玻璃基底上形成的柱状间隔物层、ITO层(透明电极)、外涂层、RGB颜色过滤树脂层或者铬黑矩阵层或树脂黑色矩阵层融化去除；所述方法还包括后处理步骤，以去除其上去除了所述层的玻璃基底上的化学残留物。

附图说明

参照相应的附图对本发明的优选实施方式进行详细描述后，本发明的上述和其他目的、特征和有益效果将变得显而易见，其中：

图1是根据本发明的回收TFT-LCD玻璃基底的方法的流程图；

图2为在图1中显示的后处理的流程图；

图3到图7为根据本发明的一个实施方案回收的TFT-LCD玻璃基底的截面图；以及

图8到图13是根据本发明的另一个实施方案回收的TFT-LCD玻璃基底的截面图。

具体实施方式

下面将参照附图解释使用深池化学反应的方法有选择地回收TFT-LCD玻璃基底的方法。