[发明专利]具有多个喷嘴的气体擦试装置有效

专利信息
申请号: 200680056564.0 申请日: 2006-12-12
公开(公告)号: CN101548027A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 金根永;朴海斗;李东垠;郑源哲 申请(专利权)人: POSCO公司
主分类号: C23C2/16 分类号: C23C2/16
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 代理人: 郑建晖;杨 勇
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 具有 喷嘴 气体 试装
【权利要求书】:

1.一种气体擦拭装置,包括:

主体,其容纳高压气体;以及

多喷嘴单元,其被布置在所述主体上,以将所述高压气体喷射到移动的涂层钢带的表面上,

其中所述主体包括腔,所述腔限定用于容纳所述高压气体的空间;并且

所述主体具有隔墙,所述隔墙用于将容纳所述高压气体的所述空间分隔为第一和第二均匀压力空间,所述隔墙中穿有通气孔。

2.根据权利要求1所述的气体擦拭装置,其中所述高压气体经由连接至所述主体的气体进给管供应;以及

其中在所述腔的侧壁中穿有排气孔,以经由所述排气孔喷射所述高压气体,所述多喷嘴单元安装在该侧壁中。

3.根据权利要求2所述的气体擦拭装置,其中所述多喷嘴单元包括:

主喷嘴,其被布置在所述主体的腔的所述侧壁处,以与所述腔中的排气孔连通;以及

至少一对副喷嘴,每对中的两个喷嘴分别被布置在所述主喷嘴之上和之下,以与所述排气孔连通。

4.根据权利要求3所述的气体擦拭装置,其中所述主喷嘴包括一个喷嘴,所述副喷嘴包括各自分别布置在所述主喷嘴之上和之下的第一和第二副喷嘴。

5.根据权利要求3所述的气体擦拭装置,进一步包括形成在所述主喷嘴内的第三均匀压力空间,所述第三均匀压力空间经由所述排气孔与所述腔的第二均匀压力空间连通。

6.根据权利要求3所述的气体擦拭装置,其中所述主喷嘴和副喷嘴包括结合到所述腔的侧壁的上唇缘和下唇缘,所述上唇缘和下唇缘限定主气体出口和副气体出口。

7.根据权利要求6所述的气体擦拭装置,其中所述主气体出口和副气体出口沿所述钢带的移动方向距所述腔以预定间隔相继被布置。

8.根据权利要求2或6所述的气体擦拭装置,其中所述主体的腔包括:

腔体,其中容纳所述高压气体;以及

唇缘支撑单元,其被布置在所述腔体上,并且其中装设有所述多喷嘴单元的唇缘。

9.根据权利要求8所述的气体擦拭装置,其中所述唇缘支撑单元包括:

唇缘支撑物,其使所述主喷嘴和副喷嘴的上唇缘和下唇缘倾斜地并可移动地与其接合;以及

支撑体,其具有排气口,所述排气口用于将容纳在所述腔内的高压气体排向形成在所述唇缘之间的气体排放出口,所述支撑体一体地连接到所述唇缘支撑物,以支撑所述擦拭设备以抗负荷。

10.根据权利要求8所述的气体擦拭装置,进一步包括第一气体导向装置,所述第一气体导向装置被布置在所述腔的第二均匀压力空间内,并被配置为调节流向所述主喷嘴和副喷嘴的高压气体的量。

11.根据权利要求10所述的气体擦拭装置,其中所述第一气体导向装置包括导向板,所述导向板中的每个可旋转地连接至所述唇缘支撑单元中用于支撑所述主喷嘴的唇缘支撑物中的相应一个,所述导向板通过竖向地与其关联的驱动单元被可旋转地安装在所述腔内。

12.根据权利要求11所述的气体擦拭装置,其中所述驱动单元被布置在腔的侧壁上以不干扰所述高压气体的流动,并且包括与所述导向板连接的驱动汽缸。

13.根据权利要求3或5所述的气体擦拭装置,进一步包括第二气体导向装置,所述第二气体导向装置被布置在所述腔的第二均匀压力空间内,并被配置为允许所述高压气体以均匀的量流向所述主喷嘴和副喷嘴。

14.根据权利要求13所述的气体擦拭装置,其中所述第二气体导向装置包括导向板,所述导向板在所述第二均匀压力空间中限定通气口,同时所述导向板之间形成第四均匀压力空间。

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