[发明专利]用于金属表面的包含水合氧化铝研磨剂的平整化组合物无效
申请号: | 200680056523.1 | 申请日: | 2006-12-04 |
公开(公告)号: | CN101573420A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | I·佩特罗维克;S·马图尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 刘金辉;林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 金属表面 包含 水合 氧化铝 研磨剂 平整 组合 | ||
1.一种基本上不含无水氧化铝并包含液体和固体的CMP研磨剂浆 料,其中所述固体包含:
(a)基于所述固体为至少约90重量%的至少一种具有式Al2O3·xH2O,其 中x为1-3的非球形组分,和
(b)基于所述固体为至多约1重量%的亚微α-氧化铝。
2.根据权利要求1的CMP研磨剂浆料,其主要由所述至少一种具有 式Al2O3·xH2O,其中x为1-3的非球形组分组成。
3.根据权利要求1的CMP研磨剂浆料,其中所述非球形组分为勃姆 石。
4.根据权利要求1的CMP研磨剂浆料,其中所述非球形组分包括涂 布有勃姆石的高岭土。
5.一种平整化金属的方法,其包括以下步骤:将权利要求1的CMP 研磨剂浆料用于抛光金属。
6.根据权利要求5的方法,其中平整化在pH酸性条件下进行。
7.根据权利要求5的方法,其中将所述浆料用于抛光铜。
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