[发明专利]烹调装置

说明书

技术领域

本发明总体涉及一种烹调装置，更具体而言，涉及一种能有效冷 却烹调装置的后部空间的烹调装置，在该烹调装置中，安置有诸如对 流加热器组件、磁控管、高压变压器、高压电容器之类的加热元件。

背景技术

韩国专利申请公开No.2005-0083504公开了一种烹调装置的典型 实例，该烹调装置具有设置于烹调腔一侧的主要部件，包括：磁控管、 高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。韩国专利申请公开No. 2006-0037003公开了一种烹调装置，该烹调装置具有安装于烹调腔上 侧的主要部件、并将对流加热器组件容纳于该烹调腔的后壁，这些主 要部件包括：磁控管、高压变压器以及高压电容器。韩国实用新型申 请公开No.1999-0010444公开了一种烹调装置，该烹调装置具有设置于 烹调腔下侧的主要部件和操作板，这些主要部件包括：磁控管、高压 变压器以及冷却风扇。

另外，韩国实用新型申请公开No.1998-0016489公开了一种烹调 装置，该烹调装置具有安装于烹调腔侧壁的主要部件，并设置有从该 烹调腔的顶壁开始而到达其侧面的冷却流径，这些主要部件包括磁控 管、高压变压器以及冷却风扇。

韩国专利申请公开No.1998-0053939公开了作为烹调装置典型实 例的微波炉的门，其中，该门设置有用于阻挡微波的门框以及环绕该 门框的阻流盖。

韩国专利申请公开No.1995-0003729公开了一种烹调装置，该烹 调装置具有从烹调腔的侧面开始、经过烹调腔的底侧而到达门的烹调 流径。

韩国专利申请公开No.2004-0108050公开了烹调装置中所使用的 操作面板的示例，其中，该操作面板设置有使用静电的玻璃触摸键盘。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能有效冷却 其后部空间。

本发明的另一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能冷却其后 部空间和上部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能有效冷却 其后部空间、上部空间和门。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过从下部 到上部的冷却气流来冷却其后部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能利用在其 后部空间内所形成的冷却流径的流将烹调腔内所产生的热量和气味除 去。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能更高效地 利用主要留给对流加热器组件的后部空间，并能通过冷却流径有效冷 却该后部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置配备有布置 在后部空间内的诸如磁控管、高压变压器、高压电容器等等之类的加 热元件，并能有效冷却这些加热元件。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置配备有安置 于后部空间下部的冷却风扇，并能通过沿着由该冷却风扇所形成的冷 却流径而布置主要部件来对这些主要部件进行冷却。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过利用其 后部空间而具有高度和宽度增加的更大烹调腔，并能有效冷却该后部 空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过利用盘 子代替转盘、并通过利用烹调装置的后部空间而具有高度、宽度和深 度可调的烹调腔。

技术方案

为了实现上述目的和优点，提供了一种烹调装置，包括；烹调腔； 后部空间，位于烹调腔后方；以及冷却流径，位于后部空间并从后部 空间的下部延伸至后部空间的上部，以冷却该后部空间。通过此构造， 使得通过从后部空间的下部运动至其上部的流来冷却烹调装置的后部 空间成为可能。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：加热构件，包括位 于后部空间的对流加热器组件、磁控管、高压变压器、以及高压电容 器中的至少两个。通过此构造，能有效利用、并通过冷却流径有效冷 却主要设计用于对流加热器组件的后部空间。

在本发明的另一方面中，冷却流径由分别用于冷却至少两个加热 构件的至少两个单独的子通道组成。通过此构造，就空间利用而言， 将需要冷却的加热构件有效地布置在后部空间内，并对这些加热构件 进行有效冷却。