[发明专利]曝光方法以及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及在制造用于液晶面板的彩色滤光片(color filter)等时所使用的曝光方法以及曝光装置。 

背景技术

以往，在用于液晶面板的彩色滤光片的制造中，已知用于在形成了黑斑矩阵(black matrix)的基板上形成红(R)、绿(G)、蓝(B)的着色层的曝光方法或曝光装置(例如，参照专利文献1、专利文献2)。在该曝光方法中，将放置了基板的基板台(stage)搬运到曝光部分从而定位，并在该曝光部分通过比基板的面积小的光掩膜(photo mask)将来自光源部分的曝光光照射到基板上的规定区域从而进行第1次曝光。接着，使所述基板台阶梯移动规定距离从而将基板在曝光部分再次定位后，在第1次未能曝光的区域进行第2次曝光。重复这样的曝光从而在大型基板的整个面上转印光掩膜的图案。 

此外，其他以往的曝光方法或曝光装置例如记载在专利文献3以及专利文献4中。在该曝光方法中，抽出缠绕在辊上的片状基材(基板)到曝光部分从而定位，在该曝光部分中通过相当于单位基板的大小的光掩膜将来自光源部分的曝光光照射到片状基板的规定区域从而转印光掩膜的图案。接着，抽出所述片状基板相当于单位基板的量从而定位，通过重复同样的曝光操作，依次在片状基板的长度方向上转印光掩膜的图案。 

专利文献1：特开平9-127702号公报 

专利文献2：特开2000-347020号公报 

专利文献3：特开2004-341280号公报 

专利文献4：特开2001-264999号公报 

发明内容

发明要解决的课题 

但是，在上述以往的曝光方法或曝光装置中，在对于所述基板(基材) 的规定区域的曝光结束时，需要暂时结束曝光操作并使光掩膜相对于基板(基材)阶梯移动，从而间断地重复再次对基板(基材)和光掩膜进行位置匹配的操作。因此，存在曝光操作所需的时间变长，不能有效地进行曝光作业的问题。此外，若为了防止自重导致的挠曲而缩小光掩膜的大小，则对大型基板重复曝光操作的次数变多，相应地曝光时间变长，上述问题变得更加显著。 

此外，在为减少所述曝光操作的重复次数而使用了较大的光掩膜时，曝光光需要较大的能量。因此，根据光源部分的功率极限而不得不延长曝光光的照射时间，存在最终无法缩短曝光时间的问题。 

进而，为了在所述曝光部分进行所述基板(基材)和光掩膜的位置匹配，需要预先在所述基板(基材)和光掩膜的双方形成与图案不同的定位标记(alignment mark)，存在所述基板(基材)和光掩膜的制造工序变得繁杂的问题。 

本发明是鉴于上述情况而完成，其目的在于提供一种使用较小的掩膜能够有效地对具有较宽的曝光区域的基板进行曝光的曝光方法以及曝光装置。 

解决课题的方案 

为了解决所述课题，本发明具有以下的特征。 

即，本发明的曝光方法的特征在于，包括： 

通过基板搬运单元以一定速度向一定方向搬运基板的步骤； 

用摄像单元拍摄在所述基板上预先形成的基准图案的图案边缘，从而检测基板上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置的步骤； 

对掩膜进行位置调节使得在由所述摄像单元拍摄的基准图案通过所述基板搬运单元从摄像位置被移动到曝光位置时，所述掩膜的位置与所述基板上的所述基准位置一致的步骤；以及 

在所述曝光位置中通过在曝光光学系统的光程上设置的所述掩膜照射来自连续光源的曝光光，并在所述基板上转印所述掩膜的开口部分的图像的步骤， 

所述曝光方法对沿基板的搬运方向的曝光区域连续曝光。 

本发明的曝光装置的特征在于，包括： 

基板搬运单元，以一定速度向一定方向搬运基板； 

曝光光学系统，对通过所述基板搬运单元搬运的状态的基板，通过掩膜的开口部分照射来自连续光源的曝光光，从而将所述开口部分的图像转印到 所述基板上； 

摄像单元，在所述基板的移动中拍摄在所述基板上预先形成的基准图案的图案边缘；以及 

控制装置，根据由所述摄像单元所拍摄的所述图案边缘的图像来检测所述基板上的搬运方向和与所述搬运方向成直角的方向中的基准位置，并对掩膜进行位置调节使得在由所述摄像单元拍摄的基准图案从摄像位置被移动到曝光位置时，所述掩膜的位置与所述基板上的所述基准位置一致，