[发明专利]酞菁及其在喷墨印刷中的用途

权利要求书

1.式(1)的化合物及其盐:

式(1)

其中:

M为2H、Si、金属、氧金属基团、羟基金属基团或卤代金属基团；

Pc表示下式的酞菁核:

R¹为除甲基以外的任选的取代烷基；

R²为H、任选取代的烷基或任选取代的芳基；

R³为H、任选取代的烷基或任选取代的芳基；

R⁴为包括杂环和可电离基团的基团；

L为直键或二价连接基团；

x为0.1至3.8；

y为0.1至3.8；和

z为0.1至3.8。

2.根据权利要求1的化合物及其盐，其中M为Cu。

3.根据权利要求1或权利要求2任一项的化合物及其盐，其中R¹为任选取代的C_2-6烷基。

4.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R¹带有至少 一个选自-OH、-SO₃H、-CO₂H和-PO₃H₂的取代基。

5.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R²为H或甲 基。

6.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R³为H或甲 基。

7.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R⁴包括氮杂 环。

8.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R⁴包括选自 -SO₃H、-CO₂H和-PO₃H₂的可电离酸基团。

9.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R⁴为带有选 自-SO₃H、-CO₂H和-PO₃H₂的取代基的三嗪基基团。

10.根据在前权利要求的任一项的化合物及其盐，其中R⁴包括式(2) 的基团:

式(2)

其中:

X选自-OR⁵、-SR⁵、-NR⁵R⁶；

Y选自-OR⁷、-SR⁷、-NR⁷R⁸；

R⁵、R⁶、R⁷和R⁸独立地为H、任选取代的烷基、任选取代的芳基 或任选取代的杂环基，条件是由R⁵、R⁶、R⁷和R⁸表示的至少一个基团 带有至少一个选自-SO₃H、-CO₂H和-PO₃H₂的取代基。