[发明专利]光记录介质以及光记录介质的信息再现方法无效
| 申请号: | 200680029340.0 | 申请日: | 2006-08-08 | 
| 公开(公告)号: | CN101243505A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 | 
| 发明(设计)人: | 菊川隆;福泽成敏;小林龙弘;富永淳二;中野隆志;岛隆之;金朱镐;黄仁吾 | 申请(专利权)人: | TDK股份有限公司;三星电子株式会社 | 
| 主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/005 | 
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高龙鑫;马少东 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 介质 以及 信息 再现 方法 | ||
1.一种光记录介质,其特征在于,具有基板,而且至少具有形成在该基板上的记录层以及超分辨率层,上述超分辨率层由在以规定照射功率的DC光照射1~300秒钟时产生空隙的材料构成。
2.一种光记录介质,其特征在于,具有基板,而且至少具有形成在该基板上的记录层以及超分辨率层,上述超分辨率层由具有通过1~300秒钟的DC光照射能够产生空隙的规定照射功率的材料构成。
3.根据权利要求1或2所记载的光记录介质,其特征在于,上述超分辨率层由以下材料构成,该材料是指,在利用DC光照射形成有用于再现的再现光学系统的分辨极限以下大小的单一频率的记录标记的记录层、且使其照射功率从比产生上述空隙的规定照射功率更小的功率变化到大的功率时,再现信号的载波噪声比以分贝为单位而至少变为3倍的材料。
4.根据权利要求1或2所记载的光记录介质,其特征在于,上述超分辨率层由以下材料构成,该材料是指,在利用DC光照射形成有用于再现的再现光学系统的分辨极限以下大小的单一频率的记录标记的记录层、且使其照射功率改变时,在再现信号的载波噪声比以分贝为单位而至少呈现3倍差别的照射功率之间,具有产生上述空隙的规定照射功率的材料。
5.根据权利要求1至4中任一项所记载的光记录介质,其特征在于,上述超分辨率层由Sb、Bi、Te、Zn、Sn、Ge、Si中的任一种的化合物构成。
6.根据权利要求5所记载的光记录介质,其特征在于,在上述材料中至少包含有Ag或In。
7.一种光记录介质的信息再现方法,其特征在于,对于以下光记录介质。即,对于具有基板,而且至少具有形成在该基板上的记录层以及超分辨率层,上述超分辨率层由在以规定照射功率的再现光照射1~300秒钟时产生空隙的材料构成,上述记录层上形成有用于再现的再现光学系统的分辨极限以下大小的记录标记的光记录介质,利用照射功率比产生上述空隙的照射功率更大的再现光进行照射,从而再现上述记录标记的信息。
8.一种光记录介质的信息再现方法,其特征在于,对于以下光记录介质,即,对于具有基板,而且至少具有形成在该基板上的记录层以及超分辨率层,上述超分辨率层由具有通过1~300秒钟的DC光照射能够产生空隙的规定照射功率的材料构成,在上述记录层上形成有用于再现的再现光学系统的分辨极限以下大小的记录标记的光记录介质,利用照射功率比产生上述空隙的照射功率更大的再现光进行照射,从而再现上述记录标记的信息。
9.一种光记录介质的信息再现方法,其特征在于,对于以下光记录介质,即,对于具有基板,而且至少具有形成在该基板上的记录层以及超分辨率层,上述超分辨率层由具有通过1~300秒钟的DC光照射能够产生空隙的规定照射功率的材料构成,在上述记录层上形成有用于再现的再现光学系统的分辨极限以下大小的记录标记的光记录标记,将产生上述空隙的照射功率的DC光的照射功率作为再现功率。
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